[发明专利]石墨烯超窄带电光调制器有效
| 申请号： | 201810644115.2 | 申请日： | 2018-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN108919520B | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 刘江涛;童红;蔡勋明;王代强;王声权;付海波;孙崭 | 申请（专利权）人： | 贵州民族大学 |
| 主分类号： | G02F1/01 | 分类号： | G02F1/01 |
| 代理公司： | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人： | 施秀瑾 |
| 地址： | 550025 *** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石墨 窄带 电光 调制器 | ||
【权利要求书】：
1.一种石墨烯超窄带电光调制器，其特征在于，所述电光调制器中包括：
平行设置的上反射镜和下反射镜；
设置于所述上反射镜和下反射镜之间的一对支撑密闭层；
由所述上反射镜、下反射镜及支撑密闭层形成的内部真空的光学微腔；及
多层薄膜复合结构，平行设置于所述反射镜和下反射镜间，将所述光学微腔隔开为上微腔和下微腔，且所述上微腔和下微腔中填充有金属饱和蒸汽；
所述多层薄膜复合结构由石墨烯层、绝缘层及石墨烯层组成，或所述多层薄膜复合结构由多周期石墨烯层和绝缘层交替组成，且最外层均为石墨烯层。
2.根据权利要求1所述的电光调制器，其特征在于，所述金属饱和蒸汽为铷原子饱和蒸汽或铯原子饱和蒸汽。
3.根据权利要求1所述的电光调制器，其特征在于，所述绝缘层由氮化硼或二氧化硅构成。
4.根据权利要求1或3所述的电光调制器，其特征在于，所述多层薄膜复合结构中包括的石墨烯层由空穴掺杂和电子掺杂间隔设置。
5.根据权利要求1所述的电光调制器，其特征在于，所述上反射镜/下反射镜为由多层介质布拉格反射镜或金属薄膜构成的背反射镜。
6.根据权利要求5所述的电光调制器，其特征在于，所述多层介质布拉格反射镜由两种介质交替构成，折射率分别为n1和n2，两种介质的厚度分别为λ0/(4n1)和λ0/(4n2)，其中λ0为特征波长，由金属原子蒸汽中心跃迁波长和入射光角度决定。
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