[发明专利]掩模板、曝光方法和触控面板

说明书

提供一种掩模板，包括：多个遮光条，所述多个遮光条配置为阻挡光线，所述多个遮光条包围形成的间隙允许光线通过，其中，所述多个遮光条布置成网格状，所述多个遮光条包括第一遮光条和第二遮光条，所述第一遮光条位于所述掩模板的至少一个侧边缘处，所述第一遮光条的宽度大于所述第二遮光条的宽度。还提供一种使用该掩模板的曝光方法和使用该曝光方法制造的触控面板。

技术领域

本公开涉及掩模曝光技术领域，更具体地，涉及一种掩模板、使用该掩模板的曝光方法以及使用该曝光方法制造的触控面板。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示面板或触控面板的尺寸在不断增大。为了生产出更大尺寸的显示面板或触控面板，需要建立新的生产线。而建立新的生产线，特别是更高世代的生产线，不仅需要巨大的投资，而且还存在较高的技术风险。

因此，存在使用小世代的生产线生产大尺寸的显示面板或触控面板的需求。

发明内容

一个方面，提供一种掩模板，包括：多个遮光条，所述多个遮光条配置为阻挡光线，所述多个遮光条包围形成的间隙允许光线通过，

其中，所述多个遮光条布置成网格状，所述多个遮光条包括第一遮光条和第二遮光条，所述第一遮光条位于所述掩模板的至少一个侧边缘处，所述第一遮光条的宽度大于所述第二遮光条的宽度。

可选地，所述掩模板用于包括至少两次曝光的拼接曝光工艺中，所述第一遮光条具有第一宽度，所述第二遮光条具有第二宽度，所述第一宽度与所述第二宽度之间的差值与拼接曝光工艺中两次曝光之间的掩模板的位置偏差成正比。

可选地，所述第一宽度和所述第二宽度满足如下关系式：

W_m1＝W_m2+2W_p，

其中，W_m1为所述第一宽度，W_m2为所述第二宽度，W_p为宽度差且大于零。

可选地，所述宽度差W_p大于等于16μm。

可选地，所述第一遮光条位于所述掩模板的沿拼接方向的两个侧边缘处，或者，所述第一遮光条位于所述掩模板的四个侧边缘处。

可选地，所述第二遮光条的宽度小于等于6μm。

可选地，两个相邻的所述第二遮光条之间的间距在100～300μm的范围内。

可选地，所述掩模板还包括至少一个对位标记。

另一个方面，提供一种曝光方法，该曝光方法使用上述的掩模板在基板上执行拼接曝光工艺，所述基板包括第一曝光区域和第二曝光区域，该曝光方法包括如下步骤：

对准所述掩模板与所述基板的第一曝光区域，以执行第一次曝光；

使所述掩模板与所述基板相对运动；和

对准所述掩模板与所述基板的第二曝光区域，以执行第二次曝光。

可选地，所述执行第一次曝光包括：

利用所述掩模板的第一遮光条，在所述第一曝光区域中形成第一图案；和

利用所述掩模板的第二遮光条，在所述第一曝光区域中形成第二图案，

其中，所述第一图案的宽度大于所述第二图案的宽度。

可选地，在第二次曝光中，所述掩模板的第一遮光条在基板上的正投影与所述第一图案在基板上的正投影部分重叠，重叠部分的宽度等于所述第二遮光条的宽度。

可选地，对准所述掩模板与所述基板的第一曝光区域，以执行第一次曝光工艺包括：