[发明专利]天线及等离子体处理装置

权利要求书

1.一种天线，其具备电介质窗及设置于所述电介质窗的一个面的缝隙板，该天线的特征在于，

在所述电介质窗设有多个凹部，

所述缝隙板上，在包围所述缝隙板的中央的虚拟圆上设定多个虚拟点，并设定包围各虚拟点的周围的虚拟环状线，将沿各虚拟环状线配置4个以上的缝隙而成的集合作为缝隙组时，

在各缝隙组中，

在从所述缝隙板的厚度方向观察的情况下，各个所述凹部的重心与作为所述缝隙组各自的重心的各个所述虚拟点的位置一致，

将各缝隙的宽度方向的中央位置并且长度方向的中央位置作为基准位置时，

各缝隙的所述基准位置位于所述虚拟环状线上，

连结各缝隙的所述基准位置与这些缝隙所属的所述虚拟点的线段从所述虚拟点以放射状存在，且相邻的这些线段之间的角度相等，并且，

所述基准位置上的各缝隙的长度方向与该缝隙所属的所述线段所成的角度相等，且在将该角度设为θ时，满足45°＜θ≤90°。

2.根据权利要求1所述的天线，其特征在于，

所述缝隙的形状为使长度方向的朝向不变而以直线状延伸的形状。

3.根据权利要求2所述的天线，其特征在于，

所述缝隙的形状为长方形或长孔形状。

4.根据权利要求1所述的天线，其特征在于，

所述缝隙的形状为圆弧形状。

5.一种等离子体处理装置，其具备：

权利要求1所述的天线；

处理容器，安装有所述天线；

工作台，设置于所述处理容器的内部且与所述电介质窗对置并载置待处理的基板；及

微波产生器，向所述天线供给微波。

6.一种等离子体处理装置，其具备：

权利要求2所述的天线；

处理容器，安装有所述天线；

工作台，设置于所述处理容器的内部且与所述电介质窗对置并载置待处理的基板；及

微波产生器，向所述天线供给微波。

7.一种等离子体处理装置，其具备：

权利要求3所述的天线；

处理容器，安装有所述天线；

工作台，设置于所述处理容器的内部且与所述电介质窗对置并载置待处理的基板；及

微波产生器，向所述天线供给微波。

8.一种等离子体处理装置，其具备：

权利要求4所述的天线；

处理容器，安装有所述天线；

工作台，设置于所述处理容器的内部且与所述电介质窗对置并载置待处理的基板；及

微波产生器，向所述天线供给微波。