[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，一边使掩模和基板移动一边曝光所述基板，从而将图案转印到所述基板上，所述曝光装置的特征在于，具有：

载置台，保持所述基板使该基板移动；

控制部，控制所述载置台；

第1测量部，在被所述载置台保持的所述基板的拍摄区域中的测量对象部位到达对所述拍摄区域进行曝光的曝光区域之前，测量所述测量对象部位处的所述基板的高度方向的位置；以及

第2测量部，先于所述第1测量部而测量所述测量对象部位处的所述高度方向的位置，

所述控制部通过第1驱动和第2驱动控制所述载置台，以使在所述测量对象部位到达所述曝光区域之前使所述测量对象部位处的所述高度方向的位置成为最终目标位置，其中，该第1驱动用于根据由所述第2测量部测量所述测量对象部位处的所述高度方向的位置而得到的第1测量值来使所述基板在所述高度方向上移动，该第2驱动接着所述第1驱动，该第2驱动用于根据由所述第1测量部测量由所述第2测量部测量了位置的所述测量对象部位处的所述高度方向的位置而得到的第2测量值和所述第1测量值来使所述基板在所述高度方向上移动。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部控制由所述第1测量部以及所述第2测量部分别测量所述测量对象部位的所述高度方向的位置的定时，以使所述第1测量部和所述第2测量部测量所述拍摄区域的相同的测量对象部位的所述高度方向的位置。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部根据所述第1测量值与所述第2测量值的平均值来求出所述第2驱动下的所述基板的所述高度方向的目标位置，在所述第2驱动下，以使被所述载置台保持的所述基板的所述高度方向的位置成为所述目标位置的方式控制所述载置台。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部对所述第1测量值以及所述第2测量值分别施加权重，求出所述第2驱动下的所述基板的所述高度方向的目标位置，在所述第2驱动下，以使被所述载置台保持的所述基板的所述高度方向的位置成为所述目标位置的方式控制所述载置台。

5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部根据由所述第1测量部测量所述测量对象部位的所述高度方向的位置时的所述载置台的加速度与由所述第2测量部测量所述测量对象部位的所述高度方向的位置时的所述载置台的加速度之间的关系来决定要对所述第1测量值以及所述第2测量值分别施加的权重。

6.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部根据由所述第1测量部测量所述测量对象部位的所述高度方向的位置时的所述载置台的控制偏差与由所述第2测量部测量所述测量对象部位的所述高度方向的位置时的所述载置台的控制偏差之间的关系来决定要对所述第1测量值以及所述第2测量值分别施加的权重。

7.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部根据由所述第1测量部测量的、与所述高度方向以及所述基板的扫描方向正交的方向上的所述拍摄区域的位置与由所述第2测量部测量的、与所述高度方向以及所述基板的扫描方向正交的方向上的所述拍摄区域的位置之间的偏离量来决定对所述第1测量值以及所述第2测量值分别施加的权重。

8.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部根据用户的输入来决定对所述第1测量值以及所述第2测量值分别施加的权重。