[发明专利]基于灰度处理的微结构纹理刻画方法

权利要求书

1.一种基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)确定微结构的最大顶角α_max和最小顶角α_min；

(2)输入一副灰度图像；

(3)根据灰度图像的像素灰度值计算微结构的顶角，按照如下公式进行计算：

α_c＝g*(α_max-α_min)/g_max+α_min；

其中，α_c为微结构的顶角，g为当前像素的灰度值，α_max为微结构的最大顶角，α_min为微结构的最小顶角，g_max为灰度的最大值；

(4)确定微结构的底面尺寸：确定所需要的图像分辨率，根据该图像分辨率下像素的大小，确定微结构的底面尺寸；

(5)采用曝光显影的方法在光刻胶板上刻画呈凹陷的步骤(4)和步骤(3)所确定的微结构的纹理。

2.如权利要求1所述的基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，其特征在于，所述的微结构为棱锥或圆锥；当微结构为棱锥时，所述的顶角为相对侧面经过顶点朝向底面的夹角；当微结构为棱锥时，像素的大小为棱锥底面的边长；当微结构为圆锥时，像素的大小为圆锥底面的直径。

3.如权利要求1所述的基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，其特征在于，步骤(1)中确定微结构的最大顶角α_max和最小顶角α_min的方法为，首先确定亮度范围，即确定最大亮度值和最小亮度值；再排列相同微结构，改变微结构的顶角使得亮度值达到最大亮度值或最小亮度值，所对应的最大角度为最大顶角α_max，所对应的最小角度为最小顶角α_min。

4.如权利要求1所述的基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，其特征在于，步骤(2)和(3)中，灰度图像采用256阶灰度，g_max为255。

5.如权利要求1所述的基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，其特征在于，步骤(4)中，所确定的图像分辨率为500-1000dpi。

6.如权利要求1所述的基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，其特征在于，所述的光刻胶板为表面涂有感光胶层的玻璃板。

7.如权利要求1至6任一项所述的基于灰度处理的微结构纹理刻画方法，其特征在于，所述的最大顶角α_max为160°，最小顶角α_min为120°。