[发明专利]反射系数修正方法及系统

权利要求书

1.一种反射系数修正方法，其特征在于，包括：

根据上界面纵波速度、下界面纵波速度和入射角计算平均角；

根据所述平均角、所述上界面纵波速度、所述下界面纵波速度、上界面横波速度、下界面横波速度、上界面密度和下界面密度计算纵波反射系数。

2.根据权利要求1所述的反射系数修正方法，其特征在于，根据所述平均角、所述上界面纵波速度、所述下界面纵波速度、上界面横波速度、下界面横波速度、上界面密度和下界面密度计算反射系数，具体包括：

根据所述上界面纵波速度和所述下界面纵波速度计算纵波速度平均值；

根据所述上界面横波速度和所述下界面横波速度计算横波速度平均值；

根据所述上界面密度和所述下界面密度计算密度平均值；

根据所述上界面纵波速度和所述上界面横波速度计算纵横波速度比；

根据所述平均角、所述上界面纵波速度、所述上界面横波速度、所述上界面密度、所述纵波速度平均值、所述横波速度平均值、所述密度平均值和所述纵横波速度比计算所述纵波反射系数。

3.根据权利要求2所述的反射系数修正方法，其特征在于，通过如下公式计算所述纵波反射系数：

其中，R_PP为纵波反射系数，θ为平均角，ΔV_P为纵波速度平均值，V_P1为上界面纵波速度，γ为纵横波速度比，ΔV_S为横波速度平均值，V_S1为上界面横波速度，Δρ为密度平均值，ρ₁为上界面密度。

4.根据权利要求1所述的反射系数修正方法，其特征在于，通过如下公式计算平均角：

其中，θ为平均角，V_P1为上界面纵波速度，V_P2为下界面纵波速度，θ₀为入射角。

5.一种反射系数修正系统，其特征在于，包括：

平均角计算单元，用于根据上界面纵波速度、下界面纵波速度和入射角计算平均角；

纵波反射系数计算单元，用于根据所述平均角、所述上界面纵波速度、所述下界面纵波速度、上界面横波速度、下界面横波速度、上界面密度和下界面密度计算纵波反射系数。

6.根据权利要求5所述的反射系数修正系统，其特征在于，所述纵波反射系数计算单元具体用于：

根据所述上界面纵波速度和所述下界面纵波速度计算纵波速度平均值；

根据所述上界面横波速度和所述下界面横波速度计算横波速度平均值；

根据所述上界面密度和所述下界面密度计算密度平均值；

根据所述上界面纵波速度和所述上界面横波速度计算纵横波速度比；

根据所述平均角、所述上界面纵波速度、所述上界面横波速度、所述上界面密度、所述纵波速度平均值、所述横波速度平均值、所述密度平均值和所述纵横波速度比计算所述纵波反射系数。

7.根据权利要求6所述的反射系数修正系统，其特征在于，通过如下公式计算所述纵波反射系数：

其中，R_PP为纵波反射系数，θ为平均角，ΔV_P为纵波速度平均值，V_P1为上界面纵波速度，γ为纵横波速度比，ΔV_S为横波速度平均值，V_S1为上界面横波速度，Δρ为密度平均值，ρ₁为上界面密度。

8.根据权利要求5所述的反射系数修正系统，其特征在于，通过如下公式计算平均角：

其中，θ为平均角，V_P1为上界面纵波速度，V_P2为下界面纵波速度，θ₀为入射角。