[发明专利]一种含谐衍射面的Alvarez透镜变焦系统在审

专利信息
申请号: 201810603543.0 申请日: 2018-06-12
公开(公告)号: CN108845382A 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 侯昌伦;李泾渭;辛青;臧月 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G02B3/08 分类号: G02B3/08;G02B5/18;G02B15/00;G02B27/00
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 朱月芬
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 透镜 衍射 透镜变焦 基面 微光机电系统 色差 微光学元件 透镜面形 衍射器件 衍射透镜 焦距 透镜组
【说明书】:

发明公开了一种含谐衍射面的Alvarez透镜变焦系统,该系统包括第一谐衍射Alvarez透镜和第二谐衍射Alvarez透镜,第一谐衍射Alvarez透镜包含一个基面和工作面,第二谐衍射Alvarez透镜包含一个基面和工作面,第一Alvarez透镜和第二Alvarez透镜面形互补;本发明中的Alvarez透镜组的焦距会发生改变;其也拥有了谐衍射透镜的属性,可以在微光机电系统中作为微光学元件,并且在一定程度上克服衍射器件存在大色差的缺点。

技术领域

本发明属于光学技术领域,涉及一种谐衍射Alvarez透镜变焦系统。

背景技术

信息化、微型化和智能化是近代工业,科学与先进技术发展的三大趋向。80年代中期,在光学工业上出现了微光学,微光学是指光学功能器件或光学表面微结构的尺寸在微米量级。近几年又出现了微光机电系统MOEMS,MOEMS是最终实现人们对工业科学与技术发展的三大追求目标──信息化、微型化和智能化的技术方法。目前微系统发展正处于当年集成电路发展的初期水平,有极大的发展空间,微细工业将逐步取代一些传统工业而成为一个全新的高技术产业。

谐衍射透镜属于微光学元件,其也称为多级衍射透镜是1995年又Sweeney和Sommargren以及Faklis和Morris分别提出的概念,它可以在一系列分离波长处获得相同的光焦度,可以在一定程度上克服衍射器件存在大色差的缺点。

发明内容

本发明针对现有技术的不足,提出了一种谐衍射Alvarez透镜变焦系统。

一种含谐衍射面的Alvarez透镜变焦系统,包括第一谐衍射Alvarez透镜和第二谐衍射Alvarez透镜,第一谐衍射Alvarez透镜包含一个基面和工作面,第二谐衍射Alvarez透镜包含一个基面和工作面,第一Alvarez透镜和第二 Alvarez透镜面形互补;

其中所述的每个谐衍射Alvarez透镜的工作面由Alvarez透镜切割得到;其中Alvarez透镜的表面多项式方程为:

其中A表示为多项式系数;

Alvarez透镜产生焦距f为:

2δ为两个Alvarez透镜之间的移动的距离,n为Alvarez透镜的材料折射率;

Alvarez透镜的相位差与光程差的关系是:

其中为相位差,λ为波长,Δδ为光程差;

将Alvarez透镜去除相位差为2π的整数m倍,剩余的部分便是光程差为2π的 m倍的谐衍射Alvarez透镜组的工作面;m≥2;

所述的谐衍射Alvarez透镜组的基面满足光程差为2π的m倍。

本发明一种谐衍射Alvarez透镜变焦系统,包括第一谐衍射Alvarez透镜和第二谐衍射Alvarez透镜;

本发明相对于现有技术的效果:本发明相邻环带间的光程差是设计波长λ0的整数m(m≥2)倍,在空气中透镜最大厚度为是普通衍射透镜的m 倍。第二Alvarez透镜相对于第一Alvarez透镜沿垂直于光轴方向移动,所述Alvarez透镜组的焦距会发生改变;其也拥有了谐衍射透镜的属性,可以在微光机电系统中作为微光学元件,并且在一定程度上克服衍射器件存在大 色差的缺点。

附图说明

图1是实施例提供的Alvarez透镜组的结构示意图;

图2是实施例提供的谐衍射Alvarez透镜变焦系统去除部分示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810603543.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top