[发明专利]一种具有降低烟气中NNK功能的滤嘴添加剂合成方法与应用在审
申请号: | 201810587654.7 | 申请日: | 2018-06-08 |
公开(公告)号: | CN109926018A | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 王亚明;刘志华;杨晨 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | B01J20/12 | 分类号: | B01J20/12;A24D3/06;A24D3/04;B01J20/30 |
代理公司: | 曲靖科岚专利代理事务所(特殊普通合伙) 53202 | 代理人: | 李继琼;郑兴平 |
地址: | 650031 云南*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 滤嘴添加剂 烟气 羟基铁 层间 点位 合成 二氧化硅柱 改性蒙脱石 钠基蒙脱石 选择性吸附 二氧化硅 还原气氛 胶体分子 胶体溶液 卷烟滤嘴 可塑性强 扫描电镜 实验测试 物理吸附 吸附效果 亚铁离子 固定的 晶面层 蒙脱石 柱撑 煅烧 应用 卷烟 | ||
本发明涉及一种具有降低烟气中NNK功能的滤嘴添加剂合成方法与应用。采用二氧化硅柱撑剂在钠基蒙脱石层间进行柱撑后,固定在蒙脱石001晶面层间,得到含多重二氧化硅固定的改性蒙脱石材料(SiO2‑C8‑M);再将其浸置在羟基铁胶体溶液中,使羟基铁胶体分子充分进入层间,增多活性点位;最后在还原气氛中煅烧,形成亚铁离子点位,即得到所述的滤嘴添加剂,并在卷烟滤嘴中进行使用。经过扫描电镜、物理吸附和卷烟添加实验测试,结果表明本发明所述的滤嘴添加剂材料不仅具有较大的比表面积,而且能够选择性吸附烟气中的NNK。该滤嘴添加剂具有可塑性强,吸附效果好,且价格低廉,适用高效。
技术领域
本发明涉及卷烟技术领域,具体地说是一种具有降低烟气中NNK功能的滤嘴添加剂合成方法与应用。
背景技术
近年来,随着对卷烟安全性要求的提高,如何降低卷烟有害物质的含量,已经成为烟草行业和医学界普遍关心的话题;卷烟减害降焦也越来越显示其重要性。使用滤嘴添加剂是一种非常好的减害降焦手段。虽然目前关于烟用吸附材料的研究也越来越多,但真正大规模使用的只有活性炭添加剂。
蒙脱石是一种优良的多孔改性基质材料,具有自然界分布广泛,价格便宜,安全无害等多种优点。蒙脱石的001晶面层间非常小,通过阳离子交换,将需要的金属离子交换进入层间,形成插层化合物,层间的金属化合物由于层间高度的限制,呈现为纳米级别的状态。该材料热稳定性较好,通常温度下不会分解。最重要的是,蒙脱石作为一种食品添加剂和药用物质,有着很好的安全性保障。
4-( 甲基亚硝基氨基 )-l-(3- 比啶基 )-1- 丁酮 (NNK) 作为烟草特有 N- 亚硝胺(TSNAs,Tobacco-Specific Nitrosamines) 中的一种,是烟草中特有的一种强致癌性成分。它在人体中代谢速度慢,半衰期长,对人体健康危害性极大。因此,NNK 被列入到多个烟草有害成分名单,是卷烟中需要批露和降低的有害成分之一。NNK 主要生成于烟草的调制阶段,NNK 一旦形成生成,便能稳定地存在于烟草中,在卷烟燃烧时能够大量转移到烟气中,进而为人体所吸收。烟草中的 NNK 是卷烟烟气中 NNK 的一个重要来源,因此,降低烟草中的 NNK,便能相应地降低烟气中的 NNK。NNK 分子结构简单,化学活泼性低,导致降低烟草中NNK 比较困难,特别是只降低 NNK 而不影响卷烟口味的选择性减害技术很少。目前,可降低烟草中的NNK 的多种技术手段在降低 NNK 的同时,也降低了烟草中其它有益于卷烟口感的成分。
蒙脱石作为吸附类材料存在一大劣势,即比表面积整体不大,基本处在100-200m2/g左右;而位于其001晶面的层间活性点位由于比表面积的限制,整体量不大,最终导致其能够用于吸附的活性点位不足。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有降低烟气中NNK功能的滤嘴添加剂合成方法与应用,它具有较高的比表面积,001晶面层间活性点位量充足,能够选择性吸附烟气中的NNK。
本发明的技术方案是:
用二氧化硅柱撑剂在钠基蒙脱石层间进行柱撑后,固定在蒙脱石001晶面层间,得到含多重二氧化硅固定的改性蒙脱石材料(SiO2-C8-M);再将其浸置在羟基铁胶体溶液中,使羟基铁胶体分子充分进入层间,增多活性点位;最后在还原气氛中煅烧,形成亚铁离子点位,即得到所述的滤嘴添加剂。
具体按以下步骤进行:
1).钠基蒙脱石的合成:100g蒙脱石加入1500mL水中,充分溶胀后,加热到85℃并加入5g氢氧化钠和5g硫酸钠反应3h,过滤并洗涤5次,干燥后研磨备用。
2).CTAB(十六烷基三甲基溴化铵)插层蒙脱石的合成:50g钠基蒙脱石加入5L水中搅拌成悬浊液,加入两倍其阳离子交换容量的CTAB,80℃下反应4h,过滤并洗涤5次,干燥后研磨。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810587654.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。