[发明专利]一种高比表面积改性蒙脱石滤嘴添加剂的合成方法与应用

权利要求书

1.一种高比表面积改性蒙脱石滤嘴添加剂，其特征在于，用二氧化硅柱撑剂在钠基蒙脱石层间进行柱撑后，固定在蒙脱石001晶面层间，得到含多重二氧化硅固定的改性蒙脱石滤嘴添加剂。

2.一种高比表面积改性蒙脱石滤嘴添加剂的合成方法，其特征在于，合成过程为：

1）. 钠基蒙脱石的合成：100g蒙脱石加入1500mL水中，充分溶胀后，加热到85℃并加入5g氢氧化钠和5g硫酸钠反应3h，过滤并洗涤5次，干燥后研磨备用；

2）. CTAB（十六烷基三甲基溴化铵）插层蒙脱石的合成：50g钠基蒙脱石加入5L水中搅拌成悬浊液，加入两倍其阳离子交换容量的CTAB，80℃下反应4h，过滤并洗涤5次，干燥后研磨；

3）．取CTAB插层蒙脱石5g，加入20倍物质的量的辛胺，搅拌30min后，再加入150倍物质的量的TEOS（硅酸乙酯），封住瓶口，搅拌10min后，离心分离并洗涤6次，干燥后研磨；

4）. 将上述制备的TEOS插层蒙脱石样品放入高温炉中，空气气氛下，550℃高温灼烧5h，取出后研磨，得到最终的含多重二氧化硅固定的改性蒙脱石滤嘴添加剂。

3.根据权利要求1所述的高比表面积改性蒙脱石滤嘴添加剂，其特征在于所述添加剂001晶面中的二氧化硅是纳米级别，并呈现多重柱撑。

4.如权利要求1－3任一项所述的高比表面积改性蒙脱石滤嘴添加剂的应用，其特征在于，将制得的SiO₂-C8-M经过普通造粒机造粒，颗粒大小控制在40-60目，并以正常活性炭嘴棒添加方法加入卷烟滤嘴中，加入量为每支卷烟5—15 mg，最终制得的卷烟产品；或将制得的SiO₂-C8-M，用干法涂布在卷烟成型纸的内表面，涂布量为0.5—1g/m²，将该成型纸应用于正常滤嘴制造中，并用该滤嘴卷制最终的卷烟产品。