[发明专利]一种光学薄膜保护膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种光学薄膜保护膜及其制备方法，所述保护膜包括PE基膜层和胶层，所述胶层由胶水涂布在PE基膜层的表面经烘干而形成，所述PE基膜层包括A层和B层，A层为PE层，B层为添加了有机或无机粒子的PE层，A层和B层通过共挤方式形成PE基膜层；所述胶水包括以下重量份的原料：丙烯酸酯类树脂26～36份；乙酸乙酯60～70份；异氰酸酯类固化剂3～6份；抗静电剂0.5～1份。本发明通过对PE基膜层的层结构、胶水原料及配比以及制备工艺进行综合控制，得到了具有抗静电性能、耐刮性良好、剥离力合适、物残胶的保护膜，其阻抗值在10⁷～10¹¹Ω范围内，剥离力为1.6～2.5N/m。

技术领域

本发明涉及一种光学薄膜保护膜及其制备方法。

背景技术

目前背光模组中的使用的光学膜，如增光膜、扩散膜等，要求比较高，在其生产、运输、裁切时需要对其进行必要的保护，避免其被刮伤和污染。传统保护膜主要是使用PE单层涂胶的保护膜，它的缺点在于：PE膜薄且耐刮性差。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光学薄膜保护膜及其制备方法。通过在PE基膜层中添加有机或无机粒子，和在基膜层表面涂覆特定成分的胶水，提高保护膜的耐刮性能和防静电性能。

本发明采取的技术方案为：

一种光学薄膜保护膜，包括PE基膜层和胶层，所述胶层由胶水涂布在PE基膜层的表面经烘干而形成，所述胶水包括以下重量份的原料：丙烯酸酯类树脂26～36份；乙酸乙酯60～70份；异氰酸酯类固化剂3～6份；抗静电剂0.5～1份。

所述PE基膜层包括A层和B层，A层为PE层，B层为添加了有机或无机粒子的PE层；所述有机或无机粒子的粒径为5～10μm。在PE基膜层的B层的原料中添加有机或无机粒子从而在B层的表面形成突起的颗粒，增加了PE薄膜表面的抗黏连性与耐刮性，由于其处在PE基膜层的下层因此不会影响PE表面胶水的流平性和胶层的光滑性。

所述有机或无机粒子为有机硅、二氧化硅、PMMA、PBMA中的一种；

所述有机或无机粒子的重量为B层中PE重量的5～8％；其用量较小的话产品的耐刮性能越差，较多的话会导致保护膜的外观较差，因此综合考虑将其用量限定在5～8％。

A层和B层通过共挤方式形成PE基膜层。

所述有机或无机粒子优选为有机硅。

所述胶水涂布在PE基膜层的A层表面；所述胶层的厚度为8～12μm，一般胶层的厚度在5μm左右，本发明通过增加胶层的厚度可以让保护膜在受到外力冲击时起到一定的缓冲作用，保护产品不受损害；但是如果胶层太厚，会导致粘力过高，不易揭下，并且会产生残胶，因此本发明将胶层厚度控制在8～12μm。

所述丙烯酸酯类树脂选自聚2-甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯、环氧丙烯酸甲酯、聚氨酯丙烯酸酯中的一种或多种；优选为聚2-甲基丙烯酸甲酯。

根据权利要求1所述的光学薄膜保护膜，其特征在于，所述异氰酸酯类固化剂选自六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯中的一种或多种；优选为六亚甲基二异氰酸酯。

所述抗静电剂选自硬脂基三甲基季铵盐酸盐、脂酰胺丙基羟乙基季胺硝酸盐、硬脂酸单甘油酯、烷基二羧甲基铵乙内酯中的一种或多种；优选为硬脂基三甲基季铵盐酸盐。

本发明还提供了所述光学薄膜保护膜的制备方法，包括以下步骤：按照配方量将各原料混合均匀配制胶水，在PE基膜层的表面涂覆胶水，经70～95℃分段烘干即可得到所述耐高温耐紫外线保护膜。