[发明专利]曝光电流调制方法、装置、电子设备和存储介质

权利要求书

1.一种曝光电流调制方法，其特征在于，所述方法应用于CT系统中的CT主控台，所述CT系统中还包括CT机架，所述CT机架中包括CT球管，所述方法包括：

根据各个曝光位置对应的平均曝光电流和已扫描位置对应的实际曝光电流，获得待预测位置对应的预测曝光电流；其中，所述曝光位置包括已扫描位置和待预测位置；

计算所述预测曝光电流与球管最大电流之间的第一偏差值，并计算所述预测曝光电流与球管最小电流之间的第二偏差值；

基于所述第一偏差值与所述第二偏差值之间的大小关系，对所述预测曝光电流进行调整，以确定所述待预测位置对应的实际曝光电流，以使CT球管在各个曝光位置处的实际曝光电流的平均值与各个曝光位置对应的平均曝光电流接近；

将当前待预测位置对应的实际曝光电流传递给所述CT球管进行曝光。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据各个曝光位置对应的平均曝光电流和已扫描位置对应的实际曝光电流，获得待预测位置对应的预测曝光电流，包括：

将所述曝光位置对应的平均曝光电流之和，与所述已扫描位置对应的实际曝光电流之和的差值确定为所述待预测位置对应的预测曝光电流之和；

基于预设的电流分配方式和所述待预测位置对应的预测曝光电流之和，为每个待预测位置分配电流，并将所述待预测位置分配到的电流确定为所述待预测位置对应的预测曝光电流。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述计算所述预测曝光电流与球管最大电流之间的第一偏差值，并计算所述预测曝光电流与球管最小电流之间的第二偏差值，包括：

将所述预测曝光电流中大于球管最大电流的预测曝光电流，与所述球管最大电流的差值之和确定为所述第一偏差值；

将所述预测曝光电流中小于球管最小电流的预测曝光电流，与所述球管最小电流的差值之和确定为所述第二偏差值。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述第一偏差值与所述第二偏差值之间的大小关系，对所述预测曝光电流进行调整，以确定所述待预测位置对应的实际曝光电流，包括：

当所述第一偏差值大于所述第二偏差值时，将所述球管最大电流确定为第一待预测位置对应的实际曝光电流；

基于预设的电流分配方式，将总和为所述第一偏差值的电流分配给第二待预测位置和第三待预测位置；

如果分配到的电流与对应的预测曝光电流之和大于所述球管最大电流，则将所述球管最大电流确定为所述第二待预测位置或第三待预测位置对应的实际曝光电流；

如果分配到的电流与对应的预测曝光电流之和小于所述球管最小电流，则将所述球管最小电流确定为所述第二待预测位置或第三待预测位置对应的实际曝光电流；

如果分配到的电流与对应的预测曝光电流之和不大于所述球管最大电流且不小于所述球管最小电流，则将分配到的电流与对应的预测曝光电流之和确定为所述第二待预测位置或第三待预测位置对应的实际曝光电流；

其中，所述第一待预测位置对应的预测曝光电流大于所述球管最大电流；所述第二待预测位置对应的预测曝光电流不小于所述球管最小电流且不大于所述球管最大电流，所述第三待预测位置对应的预测曝光电流小于所述球管最小电流。