[发明专利]一种抛釉砖及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810568125.2 申请日: 2018-06-05
公开(公告)号: CN108675756A 公开(公告)日: 2018-10-19
发明(设计)人: 陈太师;庄文琴;李莉 申请(专利权)人: 陈太师
主分类号: C04B33/13 分类号: C04B33/13;C03C8/02;C04B33/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 213000 江苏省常州市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 抛釉砖 烧结 釉面 制备 白云石 硝酸钾 羧甲基纤维素 电解质 建筑陶瓷 柠檬酸钠 气孔孔径 微小气泡 无机粉体 煤渣 玻璃粉 高温液 光泽度 黑滑石 钠长石 石英粉 碳酸钡 氧化钡 有机酸 折射率 砖坯体 变小 富含 熔融 微晶 析晶 长石 能耗 膨胀 抵抗 侵蚀 配合
【说明书】:

发明公开了一种抛釉砖及其制备方法,属于建筑陶瓷技术领域。本发明在抛釉砖坯体中加入钠长石、黑滑石,在高温下这些物质不断熔融于高温液相中提高了液相的粘度,增大了气孔膨胀的阻力,形成的气孔孔径有所变小,加入石英粉、玻璃粉、煤渣作为无机粉体,再配合白云石、湖南长石、硝酸钾等富含微晶的物质,在高温下原位析晶对抛釉砖起到强化作用,可以起到促进抛釉砖烧结,降低烧结温度和能耗;再加入电解质羧甲基纤维素、柠檬酸钠、氧化钡、碳酸钡,能显著提高釉的折射率,增加釉面光泽,同时可以增加釉抵抗有机酸侵蚀的能力。本发明解决了针对目前抛釉砖光泽度较差,釉面有微小气泡的问题。

技术领域

本发明属于建筑陶瓷技术领域,具体涉及一种抛釉砖及其制备方法。

背景技术

随着国内外建筑陶瓷行业的迅速发展,能源的日趋短缺,国家也逐渐提倡和规定了节能降耗,绿色环保。这给建筑陶瓷企业无疑提高了门槛,使其面临潜在的生存危机。最近十多年来,建筑卫生陶瓷行业迅猛发展,陶瓷生产工艺技术和产品更是日新月异。兼具抛光砖表面光滑、光泽度好特点和花色丰富多样、极具个性化特点的全抛釉产品在这几年达到了前所未有的风靡,出现满城尽是全抛釉的局面。然而瓷片领域近十多年未能得到长足发展,除了在装饰手法上由丝网印刷升级到胶辊印刷再升级到目前炙手可热的喷墨打印以外,其釉面效果没有得到根本性提升。一直没能开发出具有高镜面效果和通透质感的全抛釉产品。将十年前的瓷片产品和现在的放一起,釉面质感、亮度、平整度、针孔等方面都没有得到任何改善。随着人们生活水平的不断提高,高端市场的产品需求也会越来越多,全抛釉瓷片在厨卫上墙领域的优势将进一步体现,也给传统瓷片市场的发展增加新动力,也将成为高端瓷片市场的一种趋势和潮流。因此瓷片全抛釉料的开发应用将产生非常可观的经济效益和社会效益。目前普通全抛釉瓷质砖生产工艺是在印好花的仿古砖坯表面印上或者淋上一层透明全抛釉,进入窑炉高温一次烧成后,采用弹性模块抛光而成。该产品全抛釉厚度烧后比较薄,为满足抛光需求,抛光机模块一般都采用弹性模块进行抛光。由于采用弹性模块,因此该类型产品经铺贴后在灯管下可观察到砖面并不平整,尤其是砖与砖的衔接处,容易产生类似“水波纹”的现象,极大的影响了空间的整体美观性。为克服该不足,该项目对透明全抛釉配方体系进行调整,将淋在仿古砖坯表面的透明釉层厚度加厚到0.4~0.5mm,经窑炉高温一次烧成出窑后,烧成时间为60分钟~70分钟,采用弹性模块与硬性模块相结合的方法对砖坯进行抛光,得到发色更好,层次和立体感更强,平整度更高的超平厚抛釉瓷质砖产品。超平厚抛釉瓷质砖生产过程中淋的透明抛釉厚度很厚,是普通抛釉砖产品淋釉厚度的2~4倍,高温时排气要比普通全抛釉困难,要求釉料具有合适的高温粘度和较宽的烧成范围,这对釉料配方体系和窑炉烧成制度提出了更高的要求。

发明内容

本发明所要解决的技术问题:针对目前抛釉砖光泽度较差,釉面有微小气泡的问题,提供一种抛釉砖及其制备方法。

为解决上述技术问题,本发明采用如下所述的技术方案是:

一种抛釉砖,包括添加物、浆料助剂,其特征在于,还包括抛釉砖坯体、抛釉砖釉料;

所述抛釉砖坯体按质量份数计,取20~30份黑滑石、2~5份钠长石、15~20份高岭土、20~30份硅藻土混合,即得抛釉砖坯体。

所述抛釉砖釉料为:按质量份数计,取3~9份滑石、8~10份钾长石、4~7份熔块、2~4份氧化锌、3~5份硅酸锆、1~3份氧化铝、1~3份碳酸镁、3~7份石英混合,即得抛釉砖釉料。

所述浆料助剂为:按质量份数计,取3~5份三聚磷酸钠、15~20份羟甲基纤维素、8~10份柠檬酸钠、3~5份聚丙烯酰胺、3~6份碳酸钡、1~3份氧化硼、2~4份氧化钡混合,即得浆料助剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陈太师,未经陈太师许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810568125.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top