[发明专利]一种曝光聚焦补偿方法有效

专利信息
申请号: 201810566904.9 申请日: 2018-06-05
公开(公告)号: CN110568726B 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: 请求不公布姓名 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 聚焦 补偿 方法
【权利要求书】:

1.一种曝光聚焦补偿方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1、提供晶圆,所述晶圆具有不同高度的表面地形;

S2、划分所述晶圆表面,并测量得到所述晶圆的表面地形图,以所述晶圆的圆心为中心,依据所述晶圆表面的高度分布趋势,将所述晶圆表面划分为第一区域、第二区域以及直至第N区域,N为大于2正整数,并且保证每个区域内所述晶圆表面的高度位于各个区域所设定的高度区间内;

S3、建立各个区域的曝光补偿模型,在所述第一区域均匀选取设定数量n的聚焦测量点,n为正整数,聚焦测量点1坐标(x1、y1)、聚焦测量点2坐标(x2、y2)以及直至聚焦测量点n坐标(xn、yn),对测量所述第一区域中聚焦测量点1对应的聚焦值F101(x1,y1)、所述第一区域中聚焦测量点2对应的聚焦值F101(x2,y2)以及直至所述第一区域中聚焦测量点n对应的聚焦值F101(xn,yn),并采用数学处理的方式得到所述第一区域中聚焦值与所述第一区域各聚焦测量点关系的模型,所述第一区域曝光补偿模型符合F101=f101(x,y);其中101代表所述第一区域,F101代表所述第一区域曝光聚焦值,根据晶圆表面高度变化曲线决定f101(x,y)采用线形拟合或是采用多项拟合;同时,采用同样的方式建立第N区域曝光补偿模型符合F10N=f10N(x,y);10N代表第N区域,F10N代表所述第N区域曝光聚焦值;

S4、曝光所述晶圆,采用曝光机对所述晶圆表面的各个区域分别进行曝光,在所述曝光机的曝光单元位于所述晶圆表面的同一区域时,所述曝光机的参数选用该区域所对应的曝光聚焦值;在所述曝光机的曝光单元跨接所述晶圆表面的相邻的两个或两个以上的区域时,按权重方式进行补偿各区域的曝光聚焦值;

步骤S4中,所述按权重方式进行补偿各区域的曝光聚焦值,包括建立跨区域的曝光补偿模型,以所述曝光机的曝光面积为单位进行曝光,测定所述曝光机一个曝光单位在所述晶圆表面各个区域的占比,在所述曝光机的任意一个曝光单位内建立曝光补偿模型,F=k1f101(x,y)+k2f102(x,y)+k3f103(x,y)+k4f104(x,y)+……+kNf10N(x,y),其中,所述k1代表第一区域在所述曝光机的曝光单位内所占面积的百分比,所述k2代表第二区域在所述曝光机的曝光单位内所占面积的百分比,所述k3代表第三区域在所述曝光机的曝光单位内所占面积的百分比,所述k4代表第四区域在所述曝光机的曝光单位内所占面积的百分比,所述kN代表第N区域在所述曝光机的曝光单位内所占面积的百分比,其中k1+k2+k3+k4+……+kN=1。

2.根据权利要求1所述的曝光聚焦补偿方法,其特征在于,所述数学处理的方式包括线性拟合或多项拟合。

3.根据权利要求1所述的曝光聚焦补偿方法,其特征在于,所述步骤S2中采用环形划分的方式将所述晶圆表面划分为所述第一区域、所述第二区域以及直至所述第N区域。

4.根据权利要求1所述的曝光聚焦补偿方法,其特征在于,所述步骤S2中采用不规则图形划分的方式将所述晶圆表面划分为所述第一区域、所述第二区域以及直至所述第N区域。

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