[发明专利]连接孔层的光学临近修正方法

说明书

本发明公开了一种连接孔层的光学临近修正方法，其先提供相关层的版图，找出自由度受限连接孔图形；然后对各自由度受限连接孔的进行单独的光学临近修正处理；将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段，再将中间一段和其他两段分别进行光学临近修正；该三段的中间一段占连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分。本发明的连接孔层的光学临近修正方法，在连接孔层及上下层光刻图形满足设计要求、不影响器件性能的基础上，能增大自由度受限连接孔图形的面积，减小边缘放置误差，模拟的连接孔图形与标准连接孔图形很好的契合，增大了工艺窗口，有效避免了自由度受限连接孔图形因面积过小而导致曝光失败的缺陷风险，提高了产品良率。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术，特别涉及一种连接孔层的光学临近修正方法。

背景技术

伴随着集成电路工艺的不断进步，技术节点不断降低，对器件的关键尺寸的要求也越来越严格，原因是栅极的细微的尺寸波动都会对器件有着不可预估的影响。而连接孔一般用于连接有源区或栅极及金属层，连接孔的工艺窗口小于有源区或栅极与金属层的工艺窗口，当下连接孔的工艺窗口已经成为影响整个工艺的重要因素。OPC(OpticalProximity Correction，光学临近修正)常规的CT(连接孔)修正一般是先将所有的连接孔进行整体放大，再用OPC模型对整体放大后的连接孔进行修正。

原始版图的栅极和连接孔的布局如图1所示，进行整理放大修正后的栅极和连接孔的布局如图2所示。该修正方法只考虑距离栅极和相邻的连接孔的距离，这样经过修正后，连接孔会在四个方向上进行逐渐增加，直到最小设计规则的尺寸停止增加；但这样受限于最小设计规则，图形的增加尺寸要比不受限制的图形小，即其面积要小于不受限制的连接孔图形。连接孔本来的工艺窗口就很小，这样的图形在更容易曝光失败，导致图形曝不出来，形成盲孔。

另外，由于连接孔层用于连通上层金属层及下层有源区或栅极，所以连接孔层的修正不止要考虑到本层图形，也要考虑到上下层的图形的限制。当对图形的边进行移动时，有一些被周边图形或上下层图形限制的连接孔图形就不能进行整体的移动，会造成这些图形在基于光学和刻蚀模型下，模拟出连接孔图形不能与标准连接孔图形(连接孔的内切椭圆)很好的契合，两者之间的距离较大，即边缘放置误差较大，有造成产品缺陷及工艺窗口较小等问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种连接孔层的光学临近修正方法，在连接孔层及上下层光刻图形满足设计要求、不影响器件性能的基础上，能增大自由度受限连接孔图形的面积，减小边缘放置误差，模拟的连接孔图形与标准连接孔图形很好的契合，增大了工艺窗口，有效避免了自由度受限连接孔图形因面积过小而导致曝光失败的缺陷风险，提高了产品良率。

为解决上述技术问题，本发明提供的连接孔层的光学临近修正方法，其包括以下步骤：

一.提供相关层的版图，找出自由度受限连接孔图形；

自由度受限连接孔图形，是指连接孔到相邻连接孔的最小间距、连接孔到栅极的最小间距或连接孔到上层金属层的最小间距减去设计规则规定的相应最小间距的差值小于设定值；

二.对各自由度受限连接孔的进行单独的光学临近修正处理；

将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段，再将中间一段和其他两段分别进行光学临近修正；

该三段的中间一段占连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分；

连接孔左边的中间一段的移动距离为XL1，其他两段的移动距离分别为XL2、XL3；

连接孔右边的中间一段的移动距离为XR1，其他两段的移动距离分别为XR2、XR3；

连接孔上边的中间一段的移动距离为XU1，其他两段的移动距离分别为XU2、XU3；