[发明专利]一种触摸屏及制作方法和一种移动终端

权利要求书

1.一种触摸屏的制作方法，其特征在于，包括：

在透明基板的正面和背面分别形成透明导电层；

在所述透明基板的正面的透明导电层上和背面的透明导电层上分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶；

将一个与待制作电极图案对应的模具置于所述透明基板的上方，利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光；

对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘；

对所述透明基板的正面的透明导电层和背面的透明导电层进行蚀刻并进行脱模，形成正面具有第一电极图案且背面具有第二电极图案的触摸屏，所述第二电极图案的实体部分的形状和位置与所述第一电极图案的间隙部分的形状和位置相同。

2.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，在所述在透明基板的正面和背面分别形成透明导电层之前，还包括：

利用等离子水清洗所述透明基板。

3.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，所述涂布正性光刻胶和负性光刻胶为：

以500rpm至5000rpm的旋涂速度涂布所述正性光刻胶和所述负性光刻胶。

4.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，在所述分别涂布正性光刻胶和负性光刻胶之后，还包括：

在400℃下对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行15分钟的预烘干。

5.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，所述利用置于所述模具上方的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光为：

利用置于所述模具上方的具有10mJ/cm²至45mJ/cm²的光积量的光源同时对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行曝光，持续时间为6秒至8秒。

6.根据权利要求1所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，所述对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行显影和热烘为：

对所述正性光刻胶和所述负性光刻胶进行持续1分钟以内的显影和100℃至150℃温度下持续60秒至120秒的热烘。

7.根据权利要求1-6任一项所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，所述对所述透明基板的正面的透明导电层和背面的透明导电层进行蚀刻并进行脱模为：

对所述透明基板的正面的透明导电层和背面的透明导电层进行酸蚀刻液走速为4m/min的蚀刻并进行脱模液走速为4m/min的脱模。