[发明专利]添加亚分辨率辅助图形的方法及该方法的应用

权利要求书

1.一种添加亚分辨率辅助图形的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1，从原始版图中截取具有周期结构的图形，得到待修正版图；

S2，将所述待修正版图通过反向光刻技术进行修正，得到修正后版图，所述修正后版图包括符合成像要求的主图形和辅助图形；

S3，将所述主图形和所述辅助图形分离，并将所述辅助图形加入所述原始版图中进行基于模型的光学邻近修正，

所述步骤S3包括以下步骤：

S31，将所述主图形和所述辅助图形分离并简化；

S32，将简化后的所述辅助图形加入所述原始版图中进行基于模型的光学邻近修正，

所述步骤S31包括以下步骤：

S311，对所述修正后版图进行第一简化处理，以使所述主图形和所述辅助图形具有直边结构；

S312，将所述主图形和所述辅助图形分离，以使所述主图形和所述辅助图形处于不同的光刻图层；

S313，对所述辅助图形进行第二简化处理，以使所述辅助图形符合添加亚分辨率辅助图形的要求。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述待修正版图的尺寸为10μm×10μm～30μm×30μm。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S2包括以下步骤：

S21，将所述待修正版图通过反向光刻技术进行修正，得到待验证版图，所述待验证版图包括待验证主图形和待验证辅助图形；

S22，对所述待验证版图进行成像仿真验证以得到仿真图形；

S23，将所述仿真图形与标准图形进行比较以得到比较结果，

当所述比较结果超过允许误差时，调整所述反向光刻技术的计算参数，并重复执行所述步骤S21；

当所述比较结果不超过允许误差时，得到所述修正后版图。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述计算参数包括迭代次数和工艺条件，所述工艺条件包括：曝光能量的涨落在标准曝光剂量的±5％范围内、离焦量为±40nm。

5.一种掩模板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

对原始版图进行修正，得到修正版图，所述修正的方法为权利要求1至4中任一项所述的添加亚分辨率辅助图形的方法；

依据修正版图进行所述掩模板的制作。

6.一种光刻工艺方法，其特征在于，包括以下步骤：

采用权利要求5中所述的掩模板的制作方法制作形成所述掩模板；

采用所述掩模板进行光刻工艺，形成具有图形的光刻胶。