[发明专利]一种精确测量自支撑铍薄膜密度的方法在审

专利信息
申请号: 201810536202.6 申请日: 2018-05-30
公开(公告)号: CN108593497A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 李恺;付志兵;罗炳池;罗江山;张吉强;谭秀兰;李文琦;何玉丹;金雷;陈龙 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G01N9/02 分类号: G01N9/02
代理公司: 绵阳市博图知识产权代理事务所(普通合伙) 51235 代理人: 杨晖琼
地址: 621000*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜 自支撑 测量 磁悬浮天平 称量桶 气压 称量装置 两次测量 数值拟合 次称量 称量 破裂 合并
【权利要求书】:

1.一种精确测量自支撑铍薄膜密度的方法,其特征在于,依次包括以下步骤:

(a) 将磁悬浮天平测量室内充入高纯He气,记录在不同气压变化时磁悬浮天平的称量桶的重量值;

(b) 将步骤(a)所得重量值与不同气压下He气密度值进行线性数据拟合,得出称量桶的质量及体积;

(c) 将自支撑铍薄膜置于称量桶内,在测量室内充入高纯He气,记录在不同气压变化时的称量桶和自支撑铍薄膜的共同重量值;

(d) 将步骤(c)所得重量值与不同气压下He气密度值进行线性数据拟合,得出称量桶和自支撑铍薄膜的共同质量及体积;

(e) 由称量桶和自支撑铍薄膜的共同质量及体积减去称量桶的质量及体积,得出自支撑铍薄膜的质量及体积,计算出密度。

2.根据权利要求1所述的一种精确测量自支撑铍薄膜密度的方法,其特征在于:步骤(a)所述磁悬浮天平精度为1×10-6g,称量范围为0~8g。

3. 根据权利要求1所述的一种精确测量自支撑铍薄膜密度的方法,其特征在于:步骤(a)所述高纯He气纯度为99.9999%,不同气压值为0 Mpa、2MPa、4MPa、6MPa及8MPa。

4.根据权利要求1所述的一种精确测量自支撑铍薄膜密度的方法,其特征在于:步骤(b)所述不同气压下He气密度精度为1×10-6g.cm-3,数据拟合所用模型为Archimedes公式:M=Mt-ρ×V,其中M为物体重量称量值,Mt为物体重量理论值,ρ为He气体密度,V为物体体积,根据不同气压He气下的Mρ值做线性拟合,得出MtV值,即称量桶的质量及体积。

5.根据权利要求1所述的一种精确测量自支撑铍薄膜密度的方法,其特征在于:步骤(c)所述自支撑铍薄膜为无衬底支撑的纯铍薄膜,外部尺寸小于10mm,其厚度介于1μm~10μm。

6.根据权利要求1所述的一种精确测量自支撑铍薄膜密度的方法,其特征在于:步骤(c)所述高纯He气纯度为99.9999%,所述不同气压值为0MPa、2MPa、4MPa、6MPa及8MPa。

7.根据权利要求1所述的一种精确测量自支撑铍薄膜密度的方法,其特征在于:步骤(d)所述不同气压下He气密度精度为1×10-6g.cm-3,数据拟合所用模型同样为Archimedes公式,根据不同气压He气下的Mρ值做线性拟合,得出MtV值,即称量桶和自支撑铍薄膜的共同质量及体积。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810536202.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top