[发明专利]离子束照射装置有效
| 申请号： | 201810532390.5 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN109427526B | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 土肥正二郎;小野田正敏;高桥元喜 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/16;H01J37/244 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 周善来;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子束 照射 装置 | ||
1.一种离子束照射装置，其特征在于，所述离子束照射装置具有固定在离子束照射位置的束电流测量器，
所述束电流测量器包括：
测量部；以及
防护罩，配置在所述测量部的周围，
所述防护罩包括：
前面防护罩，具有使离子束的一部分通向所述测量部的开口；
后面防护罩，配置在与所述前面防护罩相对的位置；以及
侧面防护罩，配置在所述前面防护罩和所述后面防护罩以外的部位，
在离子束照射装置的真空室壁面上具有能够开闭的门，
所述门兼用作所述后面防护罩。
2.根据权利要求1所述的离子束照射装置，其特征在于，
所述束电流测量器为大致长方体形状，
在所述后面防护罩或所述侧面防护罩上，沿着所述束电流测量器的长边方向设有永磁体。
3.根据权利要求2所述的离子束照射装置，其特征在于，
在所述后面防护罩或所述侧面防护罩上，沿着所述束电流测量器的短边方向设有永磁体。
4.根据权利要求1所述的离子束照射装置，其特征在于，
所述束电流测量器为大致长方体形状，
在所述后面防护罩或所述侧面防护罩上，沿着所述束电流测量器的长边方向设有施加负或正的电压的电极。
5.根据权利要求2所述的离子束照射装置，其特征在于，
在所述后面防护罩或所述侧面防护罩上，沿着所述束电流测量器的长边方向设有施加负或正的电压的电极。
6.根据权利要求3所述的离子束照射装置，其特征在于，
在所述后面防护罩或所述侧面防护罩上，沿着所述束电流测量器的长边方向设有施加负或正的电压的电极。
7.根据权利要求4所述的离子束照射装置，其特征在于，
在所述后面防护罩或所述侧面防护罩上，沿着所述束电流测量器的短边方向设有施加负或正的电压的电极。
8.根据权利要求5所述的离子束照射装置，其特征在于，
在所述后面防护罩或所述侧面防护罩上，沿着所述束电流测量器的短边方向设有施加负或正的电压的电极。
9.根据权利要求6所述的离子束照射装置，其特征在于，
在所述后面防护罩或所述侧面防护罩上，沿着所述束电流测量器的短边方向设有施加负或正的电压的电极。
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