[发明专利]一种在金属表面制备的玫瑰金薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810532334.1 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN108546925A 公开(公告)日: 2018-09-18
发明(设计)人: 杨富国;张玉红 申请(专利权)人: 佛山科学技术学院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/32;C23C14/18;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/02
代理公司: 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 代理人: 刘兴亮
地址: 528000 广东省佛山市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 玫瑰金 制备 金属基体 镀层 薄膜 金属表面 过渡层 表带 金属基体表面 金属基体材料 中频磁控溅射 不锈钢表壳 耐磨擦性能 电镀工艺 多层结构 使用寿命 外表装饰 电镀 表壳 镀膜 不锈钢 便利 应用
【权利要求书】:

1.一种在金属表面制备的玫瑰金薄膜,包括金属基体,该金属基体材料为不锈钢,其特征在于:玫瑰金薄膜为多层结构,金属基体的表面为玫瑰金镀层,玫瑰金镀层与金属基体之间有TiN和Ti过渡层。

2.根据权利要求1所述的一种在金属表面制备玫瑰金薄膜的方法,其特征在于:其包括以下步骤:

S1、前处理:将金属基体打磨抛光,依次放入酒精和丙酮中超声清洗各10-15min,放入真空干燥箱中充分干燥后迅速放入镀膜机真空室,镀膜机真空室本底真空度为8.0×10-3Pa,加热至230℃,保温时间20-30min;

S2、离子清洗:在镀膜机真空室通入Ar气,其压力为0.3Pa,开启偏压电源,电压250V,占空比74.4,辉光放电清洗20-30min;偏压降低至200V,开启离子源离子清洗20-30min,然后开启电弧源Ti靶,偏压200-300V,靶电流70A,离子轰击Ti靶3-4min;

S3、沉积Ti:调整Ar气压至0.36-0.39Pa,偏压降低至50-60V,电弧镀Ti3-5min;

S4、沉积TiN:调整工作气压为0.32-0.36Pa,偏压58V,Ti靶电流50-60A;开启N2,调整N2流量为110-130sccm,沉积温度为120-200℃,中频磁控溅射沉积TiN15-20min;

S5、沉积玫瑰金镀层:关闭Ti靶材,关闭N2;调整Ar气压至0.9-1.8Pa,偏压至100-200V,开启金靶电源,电流调制5-6A,中频磁控溅射沉积玫瑰金60-70min;

S6、后处理:关闭金靶电源,关闭偏压电源、离子源及气体源,保温20-25min,镀层结束;

S7、钝化处理:将镀有玫瑰金薄膜的金属基体浸金银保护水,温度为30℃,钝化处理5min,取出烘干。

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