[发明专利]微粒诊断方法和微粒诊断装置

权利要求书

1.一种微粒诊断方法，其特征在于，所述微粒诊断方法用于诊断离子束照射装置中的微粒产生部位，

所述微粒诊断方法包括：

输送和照射步骤，通过规定的输送线路将第一基板向离子束的照射位置输送，并向输送到所述照射位置的所述第一基板照射离子束；

第一判断步骤，判断在所述输送和照射步骤中被照射了离子束的所述第一基板上附着的微粒是多是少；

输送步骤，当在所述第一判断步骤中判断为微粒多时，通过所述输送线路将第二基板输送到所述照射位置；以及

第二判断步骤，判断在所述输送步骤中输送到所述照射位置且未照射离子束的所述第二基板上附着的微粒是多是少。

2.根据权利要求1所述的微粒诊断方法，其特征在于，

所述离子束照射装置具有离子束线路形成部件，所述离子束线路形成部件形成所述离子束通过的离子束线路，

所述微粒诊断方法还包括离子束线路清扫步骤，当在所述第二判断步骤中判断为微粒少时，所述离子束线路清扫步骤对所述离子束线路形成部件进行清扫。

3.根据权利要求2所述的微粒诊断方法，其特征在于，

所述输送线路形成为遍布多个区域，

所述微粒诊断方法还包括：

分区输送步骤，当在所述第二判断步骤中判断为微粒多时，对彼此不同的第三基板进行在所述输送和照射步骤中在各个所述区域对所述第二基板进行的分区作业；以及

第三判断步骤，判断在所述分区输送步骤中进行了各个所述分区作业的所述第三基板上附着的微粒是多是少。

4.根据权利要求3所述的微粒诊断方法，其特征在于，所述微粒诊断方法还包括输送线路清扫步骤，所述输送线路清扫步骤清扫与在所述第三判断步骤中判断为微粒多的所述第三基板对应的所述区域。

5.根据权利要求3或4所述的微粒诊断方法，其特征在于，在所述分区输送步骤中对所述第三基板反复多次进行各个所述分区作业。

6.根据权利要求3或4所述的微粒诊断方法，其特征在于，在所述离子束线路清扫步骤中对至少一个所述区域进行清扫，或者在所述分区输送步骤中对所述离子束线路形成部件进行清扫。

7.根据权利要求5所述的微粒诊断方法，其特征在于，在所述离子束线路清扫步骤中对至少一个所述区域进行清扫，或者在所述分区输送步骤中对所述离子束线路形成部件进行清扫。

8.一种微粒诊断装置，其特征在于，所述微粒诊断装置用于诊断离子束照射装置中的微粒产生部位，

所述微粒诊断装置包括：

个数数据接收部，接收个数数据，所述个数数据表示附着在基板上的微粒的个数或与个数相关的值；以及

判断部，基于由所述个数数据接收部接收到的所述个数数据，判断附着在所述基板上的微粒是多是少，

所述个数数据接收部接收附着在通过规定的输送线路输送到离子束的照射位置并在所述照射位置被照射了离子束的第一基板上的微粒的第一个数数据以及附着在通过所述输送线路输送到所述照射位置且未照射离子束的第二基板上的微粒的第二个数数据，

所述判断部基于所述第一个数数据判断附着在所述第一基板上的微粒是多是少，并且基于所述第二个数数据判断附着在所述第二基板上的微粒是多是少。