[发明专利]涂布喷嘴清洗装置

说明书

本发明公开了一种涂布喷嘴清洗装置，包括，辊筒，所述辊筒一部分所占的区域为涂布区，所述辊筒能够进行自转；主清洗装置，所述主清洗装置设于所述涂布区外，所述主清洗装置设有主液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述主液容纳腔内；以及副清洗装置，所述副清洗装置设于所述涂布区外，所述副清洗装置内部设有副液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述副液容纳腔内；所述辊筒自转经过所述涂布区的部位，能够随所述辊筒自转经过所述主液容纳腔和所述副液容纳腔；此时只需在主液容纳腔内注入光阻清洗液对光阻进行清洗，在副液容纳腔内注入纯水对光阻与光阻清洗液组成的混合物进行清洗，便能解决现有技术无法对光阻与清洗液混合物进行有效清洗的问题。

技术领域

本发明涉及一种喷嘴清洗装置，特别涉及一种涂布喷嘴清洗装置。

背景技术

在TFT(即Thin Film Transistor，是薄膜晶体管的缩写)侧曝光部的生产工艺中，需要依次进行玻璃基板清洗、涂布光阻、烘烤、进入曝光机、在玻璃基板上对光阻定义图形、最后经显影制程显示图形。

其中，玻璃基板完成清洗后会进入涂布单元进行光阻涂布，在涂布前会对涂布喷嘴进行清洗，完成后，涂布喷嘴会在辊筒上进行光阻预吐出动作，以此来保证涂布时玻璃基板前端膜厚的均一；当辊筒开始转动工作，预吐出的光阻随辊筒的转动被带入下方清洗辊筒的光阻清洗液中，再通过刮条将辊筒上的光阻清洗液刮干净，以此来保证辊筒的洁净度。

但是此方案中的光阻清洗液只是对辊筒进行光阻清洁，在长期使用过程中，光阻清洁液中所含光阻浓度会不断增加，这种混合液挥发物会附着在辊筒表面形成结晶物，而光阻清洗液对这种结晶物的清洁效果不佳，影响辊筒洁净度，造成涂布喷嘴涂布不良。

发明内容

本发明的目的在于提供一种涂布喷嘴清洗装置，以解决现有技术无法对光阻与清洗液混合物进行有效清洗的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种涂布喷嘴清洗装置，包括，辊筒，所述辊筒一部分所占的区域为涂布区，所述辊筒能够进行自转；主清洗装置，所述主清洗装置设于所述涂布区外，所述主清洗装置设有主液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述主液容纳腔内；以及副清洗装置，所述副清洗装置设于所述涂布区外，所述副清洗装置内部设有副液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述副液容纳腔内；所述辊筒自转经过所述涂布区的部位，能够随所述辊筒自转经过所述主液容纳腔和所述副液容纳腔。

其中，所述主清洗装置还设有主刷条，所述主刷条置于所述主液容纳腔的外部，所述主刷条与所述辊筒的周侧抵接；所述辊筒的自转方向为从所述涂布区依次经过所述主液容纳腔、所述主刷条和所述副清洗装置。

其中，所述副清洗装置还设有副刷条，所述副刷条置于所述副液容纳腔的外部，所述副刷条与所述辊筒的周侧抵接；所述辊筒的自转方向为从所述涂布区依次经过所述主清洗装置、所述副液容纳腔和所述副刷条。

其中，所述副清洗装置至少为两个，所述辊筒的自转方向为从所述涂布区依次经过所述主清洗装置、以及各个所述副清洗装置。

其中，所述涂布区置于所述辊筒的上部，所述主清洗装置和所述副清洗装置分别布置于所述辊筒相对的两侧；所述主液容纳腔与所述辊筒的周侧相对，所述主液容纳腔的开口边缘部位与所述辊筒的周侧抵接；所述副液容纳腔与所述辊筒的周侧相对，所述副液容纳腔的开口边缘部位与所述辊筒的周侧抵接。

其中，所述主液容纳腔内设有主液喷嘴，所述主液喷嘴设有主液吸口和主液喷口，所述主液吸口置于所述主液容纳腔的下部，所述主液喷口对准所述辊筒的周侧。

其中，所述副液容纳腔内设有副液喷嘴，所述副液喷嘴设有副液吸口和副液喷口，所述副液吸口置于所述副液容纳腔的下部，所述副液喷口对准所述辊筒的周侧。