[发明专利]微光刻投射曝光设备

权利要求书

1.微光刻投射曝光设备，包括反射镜阵列，该反射镜阵列具有基体(12)和多个反射镜单元(10，110)，其中每个反射镜单元包括：

-反射镜(14)；

-固态关节，该固态关节具有将所述反射镜连接到所述基体的至少两个关节部件，其中每个关节部件能够在弯曲面中弯曲；以及

-控制装置(22)，通过该控制装置(22)可以改变各个所述反射镜相对于所述基体的排列，

其特征在于：

所述至少两个关节部件中的每一个被细分为多个关节元件(18，118)，该多个关节元件(18，118)在所述弯曲面中彼此分开，以减少该至少两个关节部件的弯曲刚性，

其中所述两个关节部件在所述弯曲面中彼此分开，并且至少该控制装置(22)的部分在所述弯曲面中布置在所述至少两个关节部件之间。

2.根据权利要求1所述的投射曝光设备，其特征在于所述关节元件(18，118)至少本质上相互平行地布置。

3.根据权利要求1或2所述的投射曝光设备，其特征在于所述关节元件(18，1l8)是杆形或板形的。

4.根据权利要求1或2所述的投射曝光设备，其特征在于两个关节元件(18，118)在所述反射镜(14)上接合并且相对。

5.根据权利要求1或2所述的投射曝光设备，其特征在于除了所述控制装置和所述固态关节，弯曲热传导元件(234)也布置在所述反射镜和所述基体之间。

6.用于开发微光刻投射曝光设备的方法，该微光刻投射曝光设备包括具有基体(12)和多个反射镜单元(10，110)的反射镜阵列，其中每个反射镜单元包括：

-反射镜(14)；

-固态关节，其具有将所述反射镜连接到所述基体的至少一个关节部件；以及

-控制装置，通过该控制装置可以改变各个所述反射镜相对于所述基体的排列，该方法特征在于具有以下步骤：

i)建立所述关节部件应该具有的弯曲刚度；

ii)建立所述关节部件应该具有的热传导率；

iii)建立所述关节部件应该具有的总的截面，以实现步骤ii)中建立的热传导率；

iv)建立形成所述关节部件的相互分隔的关节元件(18，118)的数量，从而整套关节元件具有步骤i)中建立的所述弯曲刚度和步骤iii)中建立的所述总的截面。