[发明专利]一种基于双基星载SAR的高精度DEM反演方法及装置

权利要求书

1.一种基于双基星载SAR的高精度DEM反演方法，其特征在于，所述方法包括：

获取第一星载合成孔径雷达SAR和第二星载SAR在第一轨道对成像目标分别进行成像得到的第一主图像和第一辅图像，并获取第一星载SAR和第二星载SAR在第二轨道对所述成像目标分别进行成像得到的第二主图像和第二辅图像；

采用预设图像处理规则，处理所述第一主图像和第一辅图像，生成所述第一轨道对应的第一干涉图，处理所述第二主图像和第二辅图像，生成所述第二轨道对应的第二干涉图；

根据预设滤波规则，分别对所述第一干涉图和所述第二干涉图进行滤波处理，并确定所述第一干涉图和第二干涉图上各像素对应的相干系数；

根据预设转化规则，将所述滤波后的第一干涉图和第二干涉图，分别转化为第一单基线数字高程模型DEM和第二单基线DEM；

根据所述第一干涉图和第二干涉图上各像素对应的相干系数，采用预设融合规则，融合所述第一单基线DEM和第二单基线DEM，得到成像目标的融合DEM；其中，所述根据所述第一干涉图和第二干涉图上各像素对应的相干系数，采用预设融合规则，融合所述第一单基线DEM和第二单基线DEM，得到成像目标的融合DEM；包括：分别将所述第一单基线DEM和第二单基线DEM中，成像异常区域和对应相干系数低于第一预设相干阈值区域进行掩膜；将第一单基线DEM非掩膜区域和第二单基线DEM非掩膜区域进行加权融合，并将第一单基线DEM正常成像区域补充对应位置的所述第二单基线DEM掩膜区域，将第二单基线DEM正常成像区域补充对应位置的所述第一单基线DEM掩膜区域得到成像目标的融合DEM；将所述第一单基线DEM非掩膜区域对应相干系数占第一单基线DEM非掩膜区域和第二单基线DEM非掩膜区域各自对应相干系数之和的比重，确定为所述第一单基线DEM非掩膜区域进行加权融合的权值；将所述第二单基线DEM非掩膜区域对应相干系数占第一单基线DEM非掩膜区域和第二单基线DEM非掩膜区域各自对应相干系数之和的比重，确定为所述第二单基线DEM非掩膜区域进行加权融合的权值。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用预设图像处理规则，处理所述第一主图像和第一辅图像，生成所述第一轨道对应的第一干涉图，处理所述第二主图像和第二辅图像，生成所述第二轨道对应的第二干涉图，包括：

对所述第一主图像和第一辅图像进行图像配准，将配准处理后的第一主图像和第一辅图像共轭相乘得到第一干涉图；

对所述第二主图像和第二辅图像进行图像配准，将配准处理后的第二主图像和第二辅图像共轭相乘得到第二干涉图。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据预设滤波规则，分别对所述第一干涉图和第二干涉图进行滤波处理，并确定所述第一干涉图和第二干涉图上各像素对应的相干系数，包括：

采用非局部滤波法，分别对所述第一干涉图和第二干涉图中的各像素进行迭代估计；

根据所述第一干涉图各像素在迭代估计中的相似性权重，采用配准处理后的所述第一主图像和第一辅图像的古德曼Goodman模型，得到所述第一干涉图各像素对应的相干系数；

根据所述第二干涉图各像素在迭代估计中的相似性权重，采用配准处理后的所述第二主图像和第二辅图像的Goodman模型，得到所述第二干涉图各像素对应的相干系数。