[发明专利]一种制备铜铟铝碲薄膜的方法在审
申请号: | 201810522795.0 | 申请日: | 2018-05-28 |
公开(公告)号: | CN108711584A | 公开(公告)日: | 2018-10-26 |
发明(设计)人: | 刘科高;李静;许超;赵忠新;刘宏 | 申请(专利权)人: | 山东建筑大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032;H01L21/368 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250101 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 铜铟 光电薄膜 制备 前驱体薄膜样品 放入 薄膜 制备技术领域 高真空条件 可密闭容器 前驱体薄膜 热处理工艺 生产成本低 制备高性能 薄膜材料 玻璃基片 澄清透明 密闭容器 生产效率 水合联氨 仪器设备 自然晾干 玻璃片 均匀性 新工艺 旋涂法 溶剂 联氨 加热 配制 清洗 取出 生产 | ||
一种制备铜铟铝碲薄膜材料的制备方法,属于光电薄膜制备技术领域,本发明通过如下步骤得到,首先清洗玻璃基片,然后将TeO2、Cu(NO3)2、In(NO3)3和Al(NO3)3先后放入溶剂中,配制澄清透明溶液,用旋涂法在玻璃片上得到前驱体薄膜,自然晾干,放入有水合联氨的可密闭容器,使前驱体薄膜样品不与联氨接触,将装有前驱体薄膜样品的密闭容器进行加热后取出样品进行干燥,可通过增加反应次数和热处理工艺改善薄膜质量,得到铜铟铝碲光电薄膜。本发明不需要高温高真空条件,对仪器设备要求低,生产成本低,生产效率高,易于操作。所得铜铟铝碲光电薄膜有较好的连续性和均匀性,这种新工艺为制备高性能的铜铟铝碲光电薄膜提供了一种成本低、可实现工业化的生产方法。
技术领域
本发明属于太阳能电池用光电薄膜制备技术领域,尤其涉及一种制备铜铟铝碲薄膜的方法。
背景技术
众所周知,经济的高速发展必然带来能源消耗量的激增。随着近年来我国社会和经济高速发展,能源紧缺及消费能源带来的污染已成为国内社会发展中的突出问题,因此开发利用清洁能源对保护环境、经济可持续发展和构筑和谐社会都有重要的意义。为了更充分的利用太阳能这种清洁、安全和环保的可再生资源,近年来光电材料的研究和应用日益受到重视。
铜铟铝碲薄膜太阳电池目前可以认为是最有发展前景的薄膜电池,这是因为其吸收层材料CuIn1-xAlxTe2具有较高的光电转化率等一系列优点。特别是以铜铟铝碲光电薄膜的制备研究已经取得了较大的进展。
目前铜铟铝碲薄膜的制备方法主要有溶剂热法、喷射热解法、离子烧结法、化学沉积法、反应溅射法、真空蒸发法等。由于原料成本低,因此是一种非常有发展前途的光电薄膜材料,但现有工艺路线复杂、制备成本高,因而需要探索低成本的制备工艺。
如前面所述方法一样,其它方法也有不同的缺陷。与本发明相关的还有如下文献:
[1] Fahim Ahmed, Naohito Tsujii, Takao Mori. Microstructure analysis andthermoelectric properties of iron doped CuGaTe2. Journal of Materiomics,2018.
主要研究了Fe掺杂对黄铜矿型CuGaTe2结构和热输运性质的影响,采用放电等离子烧结法制备多晶样品CuGa1-xFexTe2(x为0~0.05)。
[1] Zhang Jian, Qin, Xiaoying; Li, Di; et al. Enhanced thermoelectricperformance of CuGaTe2 by Gd-doping and Te incorporation. Intermetallics,2015.
采用熔融法制备了掺杂CuGaTe2,在300~800K的温度范围内研究了它们的热电性能。结果表明,Gd掺杂和Te掺入的协同效应显著提高了CuGaTe2的热电性能。
[2] Fujii, Yosuke; Kosuga, Atsuko. High-Temperature Formation Phasesand Crystal Structure of Hot-Pressed Thermoelectric CuGaTe2 with Chalcopyrite-Type Structure. Journal of Electronic Materials, 2017.
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东建筑大学,未经山东建筑大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810522795.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型背腐蚀刻边工艺
- 下一篇:一种出光效率高的半导体LED芯片
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的