[发明专利]真空泵

说明书

提供一种真空泵，其可减少用以抑制反应产物的堆积的构成所花费的成本。真空泵包括：泵本体，包含收容转子的壳体、以及对转子进行驱动的马达；电源装置，具有对马达供给电力的电源电路，且供给有来自马达的再生电力；制动电阻，在自马达供给有再生电力的再生控制时，流通基于再生电力的电流而发热，在并未供给再生电力而供给有来自电源电路的电力的额定控制时，基于来自电源电路的电力流通电流而发热，从而对需要抑制反应产物的堆积的排气部进行加热；以及控制部，在再生控制及额定控制中，以将排气部的温度保持为抑制反应产物的堆积的堆积抑制温度的方式控制对制动电阻的电流的供给。

技术领域

本发明涉及一种真空泵。

背景技术

为了将设置于干式蚀刻(dry etching)装置、化学气相沉积(Chemical VaporDeposition，CVD)装置等半导体制造装置中的真空腔室内的气体排出而使用涡轮分子泵等真空泵。在真空泵的壳体内的气体经冷却的情况下，反应产物在壳体内堆积，因此现有的真空泵中设置有对壳体进行加热的加热器以抑制反应产物的堆积。例如，专利文献1中记载的真空泵包括安装于泵基底部的泵加热器及制动电阻。在马达的再生时，对泵加热器及制动电阻供给电流，由此对泵基底部加热而抑制反应产物的堆积。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2013-119798号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

理想的是为了将抑制反应产物的堆积的构成采用至真空泵而花费的成本减少。专利文献1中并未就所述方面进行特别研究。

[解决问题的技术手段]

本发明的真空泵的形态包括：泵本体，包含收容转子的壳体、以及对所述转子进行驱动的马达；电源装置，具有对所述马达供给电力的电源电路，且供给有来自所述马达的再生电力；制动电阻，在自所述马达供给有所述再生电力的再生控制时，流通基于所述再生电力的电流而发热，在并未供给所述再生电力而供给有来自所述电源电路的电力的额定控制时，基于来自所述电源电路的电力流通电流而发热，从而对需要抑制反应产物的堆积的加热对象部进行加热；以及控制部，在所述再生控制及所述额定控制中，以将所述加热对象部的温度保持为抑制反应产物的堆积的堆积抑制温度的方式控制对所述制动电阻的电流的供给。

根据所述真空泵，用以对马达进行再生制动的制动电阻在执行再生控制时作为用以对加热对象部进行加热的部件而使用，进而，在执行马达的额定控制时也作为用以对加热对象部进行加热的部件而使用。因此，用以抑制反应产物的堆积的构成所花费的成本减少。

优选为所述控制部在所述再生控制中，以所述电源电路的输出电压为小于所述电源电路能够安全进行动作的电压的上限值的规定电压的方式、及将所述加热对象部的温度保持为所述堆积抑制温度的方式，控制对所述制动电阻的电流的供给。

因此，在执行再生控制时，可利用制动电阻一边对加热对象部进行加热一边保护电源电路。

详细而言，所述控制部在所述再生控制中，在所述电源电路的输出电压超过所述规定电压的情况下，较以将所述加热对象部的温度保持为所述堆积抑制温度的方式对所述制动电阻供给电流的控制而言，优先减少对所述制动电阻供给的再生电力。

详细而言，所述控制部在所述再生控制中，在所述电源电路的输出电压为所述规定电压以下的情况、且所述加热对象部的温度为所述堆积抑制温度以下的情况下，以所述电源电路的输出电压为所述规定电压的方式对所述制动电阻供给所述再生电力，且在所述电源电路的输出电压为所述规定电压以下的情况、且所述加热对象部的温度超过所述堆积抑制温度的情况下，减少对所述制动电阻供给的再生电力且以将所述加热对象部的温度保持为所述堆积抑制温度的方式进行控制。