[发明专利]氟化物荧光体及其制造方法、以及发光装置有效

专利信息
申请号: 201810506901.6 申请日: 2015-09-25
公开(公告)号: CN108822834B 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 吉田智一;细川昌治;涌井贞一;冈崎俊幸 申请(专利权)人: 日亚化学工业株式会社
主分类号: C09K11/61 分类号: C09K11/61;H01L33/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 沈雪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 氟化物 荧光 及其 制造 方法 以及 发光 装置
【权利要求书】:

1.一种氟化物荧光体,其含有具有下述式(I)所示组成的粒子,并且,

在红外吸收光谱中,由下述式(P)表示的IR峰面积比Z1低于2.0×10-3

A2[M1-aMn4+aF6] (I)

式中,A表示选自K+、Li+、Na+、Rb+、Cs+及NH4+中的至少1种阳离子,M表示选自IVB族元素及IVA族元素中的至少1种元素,a满足0.04<a<0.20,

Z1=(3500cm-1以上且3800cm-1以下的峰面积)/(1050cm-1以上且1350cm-1以下的峰面积) (P),

所述具有上述式(I)所示组成的粒子是通过下述方法制造的,该方法包括:

准备至少包含含有4价锰的第一络离子和氟化氢的第一溶液、至少含有选自K+、Li+、Na+、Rb+、Cs+及NH4+中且包括K+在内的至少1种阳离子和氟化氢的第二溶液、以及至少包含含有选自IVB族元素及IVA族元素中的至少1种元素和氟离子的第二络离子的第三溶液,

其中,所述第一溶液的锰源浓度为0.01质量%以上且50质量%以下,所述第二溶液的阳离子源浓度为5质量%以上且80质量%以下,所述第三溶液的第二络离子源浓度为5质量%以上且80质量%以下;

将准备好的第一溶液及第三溶液以各自所准备液量的0.1体积%以下的每分钟滴加量分别滴加到所准备的第二溶液中,得到具有上述式(I)所示组成的粒子。

2.如权利要求1所述的氟化物荧光体,其中,

所述IR峰面积比Z1低于1.0×10-3

3.如权利要求1所述的氟化物荧光体,其中,

所述IR峰面积比Z1为1.0×10-5以上。

4.如权利要求1所述的氟化物荧光体,其中,

式(I)中的A含有K+,M含有Si。

5.如权利要求1所述的氟化物荧光体,其荧光的内量子效率为80%以上。

6.一种发光装置,其包含:

发出380nm以上且485nm以下波长范围的光的光源;

第一荧光体,其含有权利要求1所述的氟化物荧光体;

第二荧光体,其吸收380nm以上且485nm以下波长范围的光,且在495nm以上且590nm以下的波长范围具有最大发光波长。

7.如权利要求6所述的发光装置,其中,

所述第二荧光体为选自下述中的至少1种:β塞隆荧光体、卤硅酸盐荧光体、硅酸盐荧光体、稀土类铝酸盐荧光体、及硫化物荧光体。

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