[发明专利]图像传感器及其形成方法

权利要求书

1.一种图像传感器的形成方法，其特征在于，包括：

提供半导体衬底，所述半导体衬底分为若干区域，其中，各区域的半导体衬底内分别形成有光电器件；

刻蚀所述半导体衬底，以使所述半导体衬底的各区域分别具有凸出表面，所述凸出表面与所述光电器件对应；

在具有凸出表面的半导体衬底上形成介质层；

在所述介质层上形成平坦化层，所述平坦化层与所述凸出表面上的介质层齐平；

在所述平坦化层和介质层上形成底部抗反射涂层；

依次刻蚀所述平坦化层、介质层和半导体衬底，在所述平坦化层、介质层和半导体衬底内形成浅沟槽；

在所述半导体衬底内的浅沟槽侧壁和底部形成氧化层；

在所述浅沟槽内填满绝缘介质；

去除所述平坦化层和部分绝缘介质，形成隔离所述光电器件的浅沟槽隔离结构；

去除所述介质层，在所述半导体衬底上及所述半导体衬底内形成器件结构；

在所述半导体衬底上形成反射层，所述反射层暴露出所述浅沟槽隔离结构和器件结构。

2.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述反射层的材料为金属或有机材料。

3.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述反射层的厚度范围为100埃～1000埃。

4.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，在形成所述介质层之前，还包括：在具有凸出表面的半导体衬底上形成衬垫氧化层。

5.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述凸出表面的高度小于或等于3000埃。

6.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述凸出表面的侧视截面呈圆弧形、梯形或长方形。

7.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述凸出表面的侧视截面呈梯形，其斜面与底面的夹角为30°～60°。

8.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述平坦化层的材料为旋涂玻璃或正硅酸乙酯，或者，所述平坦化层为旋涂玻璃和正硅酸乙酯的叠层。

9.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，在形成底部抗反射涂层之前，还包括：在所述平坦化层和介质层表面形成硬掩膜层。

10.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，还包括：

在所述反射层、浅沟槽隔离结构和器件结构上形成层间介质层，在所述层间介质层内形成导电结构。