[发明专利]双腔结构的光纤温度与压力传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810499705.0 申请日: 2018-05-23
公开(公告)号: CN108731840A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 何向阁;李谊军;杨健;高玉倩;连子龙 申请(专利权)人: 北京东方锐择科技有限公司
主分类号: G01K11/32 分类号: G01K11/32;G01L1/24
代理公司: 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 代理人: 刘国伟;武玉琴
地址: 100085 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 本征型 非本征型 入射组件 相干光束 压力传感器 反射组件 合理距离 双腔结构 温度补偿 本征腔 毛细管 腔长 反射 制备 光纤 测量 测量压力 反射光纤 光纤熔接 入射光纤 传感器 入射 制作
【权利要求书】:

1.一种双腔结构的光纤温度与压力传感器,其特征在于,包括:

入射组件,包括入射光纤,用于引导相干光束的入射;

反射组件,包括反射光纤,用于与所述入射组件保持合理距离,形成本征型F-P腔和非本征型F-P腔;

所述本征型F-P腔,位于所述入射组件与反射组件之间,由第二毛细管与一段光纤熔接而成;

所述非本征型F-P腔,由所述本征型F-P腔与所述入射组件或所述反射组件的端面保持合理距离形成;

第一毛细管,固定连接所述入射组件、所述本征型F-P腔、所述非本征型F-P腔、所述反射组件;

根据所述非本征型F-P腔的腔长对所述相干光束的反射获得测量温度和压力;根据所述本征型F-P腔的腔长对所述相干光束的反射获得测量温度;对所述非本征型F-P腔进行温度补偿,得到精确的测量压力。

2.根据权利要求1所述双腔结构的光纤温度与压力传感器,其特征在于,所述入射光纤插入所述本征型F-P腔的所述第二毛细管,固定连接。

3.根据权利要求2所述双腔结构的光纤温度与压力传感器,其特征在于,所述反射组件还包括第三毛细管,所述反射光纤插入所述第三毛细管,固定连接,所述反射光纤的端面与所述本征型F-P腔之间形成所述非本征型F-P腔。

4.根据权利要求2所述双腔结构的光纤温度与压力传感器,其特征在于,所述反射光纤与所述第一毛细管熔接,修剪成反射薄膜。

5.根据权利要求1所述双腔结构的光纤温度与压力传感器,其特征在于,所述入射组件还包括第三毛细管,所述入射光纤插入所述第三毛细管,固定连接,所述入射光纤的端面与所述本征型F-P腔之间形成非本征型F-P腔。

6.根据权利要求5所述双腔结构的光纤温度与压力传感器,其特征在于,所述反射光纤插入所述本征型F-P腔的所述第二毛细管,固定连接。

7.一种双腔结构的光纤温度与压力传感器的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

将第二毛细管与一段光纤熔接在一起,对所述光纤剪薄研磨为需要的长度,形成本征型F-P腔;

将入射组件、所述本征型F-P腔、反射组件插入第一毛细管,合理控制其距离,形成非本征型F-P腔,固定连接形成双腔结构的光纤温度与压力传感器。

8.根据权利要求7所述双腔结构的光纤温度与压力传感器的制备方法,其特征在于,所述将入射组件、所述本征型F-P腔、反射组件插入第一毛细管,合理控制其距离,形成非本征型F-P腔具体包括如下步骤:

将所述入射组件的入射光纤插入所述本征型F-P腔的所述第二毛细管,固定连接后插入所述第一毛细管,再固定连接;

将反射光纤插入第三毛细管固定连接,形成所述反射组件;

将所述反射组件插入所述第一毛细管,固定连接,所述反射组件的端面与所述本征型F-P腔之间保持合理距离,形成非本征型F-P腔。

9.根据权利要求7所述双腔结构的光纤温度与压力传感器的制备方法,其特征在于,所述将入射组件、所述本征型F-P腔、反射组件插入第一毛细管,合理控制其距离,形成非本征型F-P腔具体包括如下步骤:

将第一毛细管与反射光纤熔接在一起,对所述反射光纤剪薄研磨为反射薄膜,形成反射组件;

将所述入射组件的入射光纤插入所述本征型F-P腔的所述第二毛细管,固定连接后插入所述第一毛细管,固定连接;所述本征型F-P腔与所述反射薄膜的端面之间保持合理距离,形成非本征型F-P腔。

10.根据权利要求7所述双腔结构的光纤温度与压力传感器的制备方法,其特征在于,所述将入射组件、所述本征型F-P腔、反射组件插入第一毛细管,合理控制其距离,形成非本征型F-P腔具体包括如下步骤:

将所述反射组件的反射光纤插入所述本征型F-P腔的所述第二毛细管,固定连接后插入所述第一毛细管,固定连接;

将所述入射组件的入射光纤插入第三毛细管,固定连接后插入所述第一毛细管,固定连接;所述入射光纤的端面与所述本征型F-P腔之间保持合理距离,形成非本征型F-P腔。

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