[发明专利]一种真空灭弧室触头系统结构

权利要求书

1.一种真空灭弧室触头系统结构，其特征在于：包括触头系统（1），触头系统（1）内设有内触头（2），触头系统（1）上方设有主触头（4）；所述主触头（4）下方连接有挂钩圈（3），内触头（2）通过挂钩圈（3）与主触头（4）连接。

2.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室触头系统结构，其特征在于：所述内触头（2）包括无氧铜部分（5）和弥散铜部分（6），弥散铜部分（6）设在无氧铜部分（5）上方。

3.根据权利要求2所述的一种真空灭弧室触头系统结构，其特征在于：所述内触头（2）中弥散铜部分（6）为加氧化铝或氧化锆的弥散铜材料制成。

4.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室触头系统结构，其特征在于：所述内触头（2）截面为“T”型结构，挂钩圈（3）截面为“L”型结构，内触头（2）与挂钩圈（3）配合钎焊焊接。

5.根据权利要求4所述的一种真空灭弧室触头系统结构，其特征在于：内触头（2）的无氧铜部分（5）端面与触头系统（1）底部的环形槽配合钎焊焊接，该结构中主触头（4）凸台处与内触头（2）的弥散铜部分（6）上端面有微小间隙，内触头（2）无氧铜部分（6）下端面与挂钩圈（3）“L”内处有间隙。

6.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室触头系统结构，其特征在于：所述触头系统（1）杯壁上设有螺旋镂空斜槽，该斜槽可为1/2线圈、1/3线圈、1/4线圈、1匝线圈或多匝线圈等线圈结构。