[发明专利]基于二维材料异质结的片上红外LED及制备方法有效

专利信息
申请号: 201810485223.X 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108695414B 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 刘思捷;魏钟鸣;李京波 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所;中国科学院大学
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/18;H01L33/26;H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 二维 材料 异质结 红外 led 制备 方法
【说明书】:

本公开提供了一种基于二维材料异质结的片上红外LED,自下而上依次包括:衬底、第一二维绝缘薄层、第一高电导率二维薄层、N型二维薄层、直接带隙二维薄层、P型二维薄层、第二高电导率二维薄层、第二二维绝缘薄层。本公开不存在晶格失配问题,并且可通过改变有源区薄层的厚度对发光波长进行一定调整,可与硅基光子器件集成;并能增强对有源区载流子的限制,提高辐射效率;同时能够解决硅基片上光互连的光源问题,从而进一步实现片上的光通信。

技术领域

本公开涉及光电领域发光二极管的制作领域,尤其涉及一种基于二维材料异质结的片上红外LED及制备方法。

背景技术

石墨烯的发现不仅仅是给理论物理学家带来了惊喜,更让人兴奋的是它在力学、电学、光学等各方面都有着独特而优异的物理性质。它是目前发现的最薄并且也是最硬的纳米材料,它的带隙为零,但对光的透射率超过97%,并且常温下它的电子迁移率超过15000cm2V-1s-1,使得石墨烯在高频电子器件与透明电极等领域有着巨大的应用前景。另一方面,石墨烯的零带隙也限制了它在电子、光电领域的应用,所以一大批类石墨烯的二维材料进入了研究者的视野,它们有着各自的优良性质,例如属于二维半导体的黑磷与过渡金属硫族化合物,属于二维绝缘体的氮化硼等。

所有的二维材料都有一个共同的特点,那就是它们都是范德华层状材料,也就是说,面内的原子是通过较强的化学键相互作用的,再通过比较弱的范德华力相互作用堆叠成体材料。结构决定性质,所以二维材料有着很多体材料不具备的优势,具体说来,首先,由于在一个维度上的量子限制效应,使得二维材料的电子结构会发生改变,从而可以根据需要进行调整;其次,二维材料的表面不存在悬挂键,可以通过范德瓦尔斯异质结将两种甚至多种材料的性质进行结合,并且不存在晶格失配问题;再次,它的体积与尺寸小,在智能穿戴、柔性衬底器件上有着不错的应用前景。在本公开中,都用到了二维材料这些优势。

另一方面,随着集成电路的发展,集成电路的集成度也一直按照摩尔定律飞速向前发展。然而,随着特征尺寸的不断缩小和集成度的不断增加,虽然单个晶体管的延时和功耗越来越小,但是互连线的延时和功耗却越来越大并逐渐占据主导。于是人们把目光投向了片上光互连。光互连能解决电互连固有的瓶颈,具有高带宽、抗干扰和低功耗等优点,可用于系统芯片中时钟信号传输,解决信号的相互干扰和时钟歪斜问题。然而,至今硅基光互连存在着一个非常严重的缺陷,那就是片上光源的问题,因为硅是间接禁带半导体,发光效率特别低,无法进行集成。所以往往需要利用光栅引入外部的光源,但这一方法必然增加了工艺的复杂度与封装的难度。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本公开提供了一种基于二维材料异质结的片上红外LED及制备方法,以至少部分解决以上所提出的技术问题。

(二)技术方案

根据本公开的一个方面,提供了一种基于二维材料异质结的片上红外LED,自下而上依次包括:衬底、第一二维绝缘薄层、第一高电导率二维薄层、N型二维薄层、直接带隙二维薄层、P型二维薄层、第二高电导率二维薄层、第二二维绝缘薄层。

在本公开一些实施例中,所述片上红外LED的发光波长通过改变直接带隙二维薄层的厚度调节。

在本公开一些实施例中,所述直接带隙二维薄层的禁带宽度同时小于所述N型二维材料与P型二维薄层材料的禁带宽度。

在本公开一些实施例中,所述直接带隙二维薄层材料为黑磷。

在本公开一些实施例中,所述N型二维薄层材料为硫化钨;所述P型二维薄层材料为硒化钼。

在本公开一些实施例中,所述衬底的材料为硅材料。

在本公开一些实施例中,所述第一二维绝缘薄层与第二二维绝缘薄层的材料为氮化硼。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所;中国科学院大学,未经中国科学院半导体研究所;中国科学院大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810485223.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top