[发明专利]一种清洗装置及其应用和清洗方法

说明书

本发明提供了一种清洗装置，用于清洗刻蚀设备的过滤器，包括储液槽、进液管、出液管和循环泵，储液槽用于储存清洗液，设置有第一开口和第二开口；进液管一端连接于所述第一开口，另一端用于与所述过滤器的进液口连接；出液管一端连接于所述第二开口，另一端用于与所述过滤器的出液口连接；循环泵设置于所述进液管和/或所述出液管上，以使所述清洗液在所述储液槽和所述过滤器之间循环流动。本发明提供的清洗装置对刻蚀设备中的过滤器进行清洗，提高过滤器的使用寿命，同时减少过滤器的更换，节省成本和时间。本发明还提供了该清洗装置的应用和清洗方法。

技术领域

本发明涉及刻蚀设备领域，特别是涉及一种清洗装置及其应用和清洗方法。

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)、半导体装置等微电路是通过在基板上形成的导电金属层或绝缘层上均匀地涂抹光刻胶，然后通过刻有图案的薄膜，进行光照射后成像，使所需的图案光刻胶成像，采用干式蚀刻或湿式蚀刻，在光刻胶下部的金属膜或绝缘膜上显示图案后，剥离去除不需要的光刻胶等一系列的光刻工程而完成的。大型显示器的栅极及数据金属配线所使用的铜合金，目前所用刻蚀液主要以双氧水系为主，由于铜离子在刻蚀液中的存在，会催化双氧水的分解，从而容易造成刻蚀液爆沸，因此，需要在刻蚀液中加入螯合剂络合铜离子。但是在刻蚀过程中，经常会有大颗粒析出物产生，造成刻蚀过程中的过滤器过早堵塞，无法正常使用。过多的更换过滤器使得生产成本大幅提高，同时增加了生产时间。因此，亟需一种操作简单且能保证过滤器正常工作的清洗装置。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种清洗装置，包括储液槽、进液管、出液管和循环泵，用于清洗刻蚀设备的过滤器，提高过滤器的使用寿命，同时减少过滤器的更换，节省成本和时间。

第一方面，本发明提供了一种清洗装置，用于清洗刻蚀设备的过滤器，包括：

储液槽，用于储存清洗液，设置有第一开口和第二开口；

进液管，一端连接于所述第一开口，另一端用于与所述过滤器的进液口连接；

出液管，一端连接于所述第二开口，另一端用于与所述过滤器的出液口连接；

循环泵，设置于所述进液管和/或所述出液管上，以使所述清洗液在所述储液槽和所述过滤器之间循环流动。

可选的，所述清洗装置还包括排液管，所述排液管与所述过滤器的进液口或出液口相连，以使所述清洗液从所述排液管排出。

可选的，所述排液管设置有抽液装置，用于将所述排液管中的液体抽出。

可选的，所述过滤器的进液口和出液口、所述进液管、所述出液管、所述排液管分别设置有阀门。

可选的，所述阀门包括电动阀门、气动阀门和电磁阀门中的至少一种。

可选的，所述清洗液包括能够溶解金属络合物的溶液，所述金属络合物包括铜络合物、钼络合物、铬络合物和镍络合物中的至少一种。

可选的，所述储液槽、所述进液管、所述出液管和所述循环泵的材质包括耐所述清洗液腐蚀的金属材质或塑料材质。

可选的，所述储液槽的容积大于所述过滤器的容积。

本发明第一方面提供了一种清洗装置，包括储液槽、进液管、出液管和循环泵，用于清洗刻蚀设备的过滤器，溶解阻塞过滤器的颗粒物质，提高过滤器的使用寿命，同时减少过滤器的更换，节省成本和时间，有利于后续制备工艺的进行。

第二方面，本发明提供了一种清洗方法，用于清洗刻蚀设备的过滤器，包括：

提供如第一方面所述的清洗装置，将所述清洗装置中的所述进液管与所述过滤器的进液口相连，将所述出液管与所述过滤器的出液口相连；