[发明专利]星空蓝三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种星空蓝三银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基层(1)，所述的玻璃基层(1)一侧具有镀膜层(2)，其特征在于，所述的镀膜层(2)包括自靠近玻璃基层(1)一侧依次向外设置的第一介质层(21)、第一功能层(22)、第一保护过渡层(23)、第二介质层(24)、第二功能层(25)、第二保护过渡层(26)、第三介质层(27)、第三功能层(28)、第三保护过渡层(29)以及第四介质层(291)，其中，所述的第一介质层(21)包括自靠近玻璃基层(1)一侧依次向外分布的SiNx层和ZnAlOx层，所述的第一功能层(22)和第三功能层(28)均为Ag层，所述的第二功能层(25)包括Ag层和Cu层，所述的第一保护过渡层(23)、第二保护过渡层(26)均和第三保护过渡层(29)包括自靠近玻璃基层(1)一侧依次向外分布的NiCr层和AZO层，所述的第二介质层(24)和第三介质层(27)均包括自靠近玻璃基层(1)一侧依次向外分布的SiNx层、ZnSnOx层和ZnAlOx层，所述的第四介质层(291)为SiNx层。

2.根据权利要求1所述的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一介质层(21)的厚度为30～45nm，且所述的第一介质层(21)的SiNx层直接镀覆在玻璃基层(1)上，所述的第一功能层(22)直接镀覆在第一介质层(21)的ZnAlOx层上。

3.根据权利要求2所述的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一功能层(22)的Ag层厚度为6～12nm；所述的第二功能层(25)的Ag层厚度为16～23nm，第二功能层(25)的Cu层厚度为1～5nm；所述的第三功能层(28)的Ag层厚度为12～18nm。

4.根据权利要求1或2或3所述的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一保护过渡层(23)、第二保护过渡层(26)和第三保护过渡层(29)包括NiCr层与AZO层的组合层，所述的第一保护过渡层(23)的厚度为4～15nm；所述的第二保护过渡层(26)的厚度为5～20nm；所述的第三保护过渡层(29)的厚度为3～20nm。

5.根据权利要求4所述的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第二介质层(24)的厚度为60～80nm；所述的第三介质层(27)的厚度为75～95nm。

6.根据权利要求4所述的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第四介质层(291)的SiNx层厚度为23～43nm。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃制备方法，其特征在于，本方法包括：

在真空环境下用靶材对玻璃基层(1)表面进行真空磁控溅射依次溅射形成第一介质层(21)、第一功能层(22)、第一保护过渡层(23)、第二介质层(24)、第二功能层(25)、第二保护过渡层(26)、第三介质层(27)、第三功能层(28)、第三保护过渡层(29)以及第四介质层(291)从而形成镀膜层(2)。

8.根据权利要求7所述的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃制备方法，其特征在于，磁控溅射时，阴极位所用靶材分别依次为硅铝靶、锌铝靶、银靶、镍铬靶、AZO金属氧化物靶、硅铝靶、锌锡靶、锌铝靶、银靶、铜靶、镍铬靶、AZO金属氧化物靶、硅铝靶、锌锡靶、锌铝靶、银靶、镍铬靶、AZO金属氧化物靶、硅铝靶，其中AZO金属氧化物靶是由ZnO_X、AlO_X烧制而成的具有陶瓷功能的金属氧化物靶材，所镀制的AZO层膜层均匀致密。

9.根据权利要求7所述的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃制备方法，其特征在于，所述的硅铝靶为硅铝重量比为90:10的硅铝合金靶、锌铝靶为锌铝重量比为98:2的锌铝合金靶、锌锡靶为锌锡重量比为50:50的锌锡合金靶、银靶银纯度为99.99％，铜靶铜纯度为99.5％、镍铬靶为镍铬重量比为80:20的镍铬合金靶、AZO陶瓷靶材料纯度99.95％，其中，所述的银靶、铜靶和镍铬靶为平面靶，其他均为旋转靶。

10.根据权利要求7所述的星空蓝三银低辐射镀膜玻璃制备方法，其特征在于，磁控溅射时，使用功率控制，为保证溅射稳定，且不破坏靶材，硅铝靶功率为0～70Kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是0.78；锌铝靶功率为0～60Kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氧比例是0.67；锌锡靶功率为0～60Kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是0.67；银靶功率为0～20Kw，镍铬靶功率为0～20Kw，AZO陶瓷靶功率为0～20Kw，溅射工艺气体是高纯氩。