[发明专利]处理盒及处理盒除余粉方法在审

专利信息
申请号: 201810446364.0 申请日: 2018-05-11
公开(公告)号: CN109031911A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 郑顺文;王绍军 申请(专利权)人: 纳思达股份有限公司
主分类号: G03G21/18 分类号: G03G21/18;G03G21/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 519060 广东省珠海市香洲区珠海大道3883号01栋2*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 处理盒 显影仓 侧壁 粉仓 粉孔 感光 显影 残余显影剂 密封拉条 显影剂混合 感光元件 吸气装置 元件产生 运输过程 废粉仓 可连接 显影剂 粉口 隔开 全检 吸出 连通 打印 贯穿 污染
【说明书】:

一种处理盒,包含感光部分、显影部分、侧壁。其中所述感光部分包含感光元件、废粉仓;所述显影部分包含粉仓、显影仓、密封拉条,所述密封拉条可将所述粉仓和所述显影仓隔开;所述侧壁位于处理盒长度方向上的两端,可将所述感光部分和所述显影部分约束在一起;所述侧壁之一上设置有用于清除余粉的除粉孔,所述除粉孔贯穿该侧侧壁并连通处理盒显影仓。所述除粉口可连接吸气装置将显影仓内的显影剂通过除粉孔吸出,防止处理盒在进行打印全检后残余显影剂与粉仓内显影剂混合后品质下降,也避免了运输过程中显影仓残余显影剂洒出对其他元件产生污染。

【技术领域】

发明涉及电子成像领域一种处理盒及其除余粉方法。

【背景技术】

处理盒作为可更换耗材广泛的使用在打印机、复印机等电子成像装置中。

现有技术中处理盒包括粉仓、显影仓以及废粉仓,粉仓内设有显影剂,感光元件、清洁元件以及充电元件设置在废粉仓内,显影元件、控粉元件设置在显影仓。在处理盒装配完成后,还设有一密封条在粉仓与显影仓的通口之间,以确保在处理盒在使用者实际使用前能对粉仓内的碳粉进行保存密封,避免在使用前受外界的温湿度环境影响。

处理盒生产厂家通常在上述处理盒装配完成后预先对处理盒进行试打印测试以确保品质达标。由于此时已完成封条对粉仓的密封,通常操作员将适量显影剂涂覆在显影元件上。但在完成测试后,仍会有一部分的显影剂残留在显影仓内。这些残存的显影剂不但有可能在用户使用时与粉仓内显影剂混合造成显影质量下降,而且可能在运输时洒出对其他元件造成污染。

为防止显影剂残留,通常需要在检测完毕后重新拆开处理盒进行清洁。但是重新装配可能会产生啮合问题,无法确保装配后的处理盒品质。

【发明内容】

本发明的目的在于解决处理盒在检测结束后显影剂残留在显影仓从而造成打印品质下降或污染其他组件的问题。

为解决以上问题,本发明采取的技术方案是:

一种处理盒,包含感光部分、显影部分、侧壁。其中所述感光部分包含感光元件、废粉仓;所述显影部分包含粉仓、显影仓、密封拉条,所述密封拉条可将所述粉仓和所述显影仓隔开;所述侧壁位于处理盒长度方向上的两端,可将所述感光部分和所述显影部分约束在一起;所述侧壁之一上设置有用于清除余粉的除粉孔,所述除粉孔贯穿该侧侧壁并连通处理盒显影仓;沿处理盒长度方向,所述除粉孔位于该侧侧壁外表面上的凸起与另一侧侧壁最远的位置至少比该侧侧壁上与另一侧侧壁最近的外表面距离另一侧侧壁更远。

优选地,沿处理盒长度方向,所述除粉孔位于该侧侧壁外表面上的凸起与另一侧侧壁最远的位置比该侧侧壁上的所有其他部分距离另一侧侧壁更远。

一种处理盒去除测试余粉的方法,按照步骤进行如下操作:

a.在处理盒的感光元件上涂显影剂,并在所述处理盒的除粉孔中塞入临时密封塞;

b.将a中处理完成的处理盒进行打印测试并筛选出合格的处理盒;

c.将b中筛选出的处理盒上的临时密封塞取下,然后通过所述除粉孔清除余粉;

d.将密封塞和密封塞压板的组合按照先装密封塞后装密封塞压板的顺序依次装入c中所述处理盒的除粉孔中。

本发明的以上和其他目的、特征、及优点通过根据附图对本发明的优选实施方式进行说明而变得更加明确。

【附图说明】

图1所示为实施例中涉及的处理盒的结构示意图;

图2所示为实施例中涉及的处理盒的结构示意图;

图3所示为实施例中显影部分的结构示意图;

图4所示为处理盒中临时密封塞的结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳思达股份有限公司,未经纳思达股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810446364.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top