[发明专利]一种显示面板的制作方法以及显示面板

说明书

本发明提供的显示面板的制作方法以及显示面板，提供一基板，其中，基板包括显示区和非显示区，在基板上形成光刻胶层，并通过曝光显影工艺在光刻胶层上形成第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域，在形成光刻胶图案的基板上涂敷遮光材料，并对遮光材料进行曝光显影，以在基板的非显示区上形成遮光层，其中，遮光层在第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物。本发明通过这种方法，保留了制程中需要去除的光刻胶材料，提高了材料的利用率，从而减少显示面板的制作流程，提高了生产效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板的制作方法以及显示面板。

背景技术

随着科技的发展和社会的进步，液晶显示器被广泛应用于各行各业。例如，薄膜晶体管液晶显示器因具有轻、薄和小等特点，同时功耗低、无辐射以及制造成本相对较低，目前，在平板显示行业应用较为广泛。

显示面板作为薄膜晶体管液晶显示器的主要部件，按结构组成可以分为薄膜晶体阵列基板和彩色滤光片基板，传统的显示面板设计中，在彩色滤光片与像素电极对位时，因为对位不佳容易造成漏光、开口率降低以及面板亮度降低等问题。

为了解决由于对位不佳造成的漏光、开口率降低以及面板亮度降低等问题，现有的解决方案是将彩色滤光片整合于阵列基板(Color Filer on Array，COA)结合黑矩阵整合于阵列基板(Black on Array，BOA)的技术，但这种技术在制作流程上较为繁琐，影响了生产效率。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板的制作方法和显示面板能够减少制作流程，提高了材料的利用率以及生产效率。

本发明提供了一种显示面板的制作方法，包括：

提供一基板，所述基板包括显示区和非显示区；

在所述基板上形成光刻胶层，并对所述光刻胶层进行曝光显影，以在所述光刻胶层上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域；

在形成所述光刻胶图案的所述基板上涂敷遮光材料，并对所述遮光材料进行曝光显影，以在所述基板的非显示区上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物，且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度。

根据本发明一优选实施例，采用第一掩膜板对所述光刻胶层进行曝光显影，以形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域。

根据本发明一优选实施例，所述第一掩膜板包括第一透光区域和第二透光区域，所述第一透光区域在所述光刻胶层上的投影与所述第一光刻胶保留区域重合，所述第二透光区域在所述光刻胶层上的投影与所述第二光刻胶保留区域重合。

根据本发明一优选实施例，所述第一透光区域的透光度为第一预设值，所述第二透光区域的透光度为第二预设值，所述第一预设值小于所述第二预设值。

根据本发明一优选实施例，所述第一光刻胶保留区域上的所述光刻胶层的厚度大于所述第二光刻胶保留区域上的所述光刻胶层的厚度。

根据本发明一优选实施例，采用第二掩膜板对所述遮光材料进行曝光，并对曝光后的遮光材料进行显影，以在所述基板的非显示区上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物，且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度。

根据本发明一优选实施例，所述第二掩膜板包括遮光区域和全透光区域，所述遮光区域在所述基板上的投影与所述非显示区重合，所述全透光区域在所述基板上的投影与所述显示区重合。

根据本发明一优选实施例，所述光刻胶层的材料为正性光刻胶或负性光刻胶。