[发明专利]一种电子元件生产的光刻装置

说明书

本发明公开了一种电子元件生产的光刻装置，包括底座；底座安装有侧板，侧板的顶部安装有顶板，顶板底部的左右两侧对称固定安装有第一机架和第二机架，第一机架和第二机架的内侧转动安装有第二螺杆和第三螺杆，第二螺杆和第三螺杆上均螺纹连接有第二螺套和第三螺套，第二螺套和第三螺套均与顶板滑动连接，第三螺套的内侧固定安装有电机罩，电机罩的内部固定安装有第一电机，第一电机的输出端固定安装有第一螺杆，第一螺杆上螺纹连接有第一螺套，第一螺套的下侧固定安装有伸缩装置，伸缩装置的伸缩端固定连接有光刻机；所述底座上的中间位置固定安装有固定装置。本发明能够精确地改变光刻机的位置，提高光刻作业的便捷性，操作简单，使用方便。

技术领域

本发明涉及一种光刻装置，具体是一种电子元件生产的光刻装置。

背景技术

光刻是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。光刻生产的目标是根据电路设计的要求，生成尺寸精确的特征图形，并且在晶圆表面的位置正确且与其它部件的关联正确。在晶圆的制造过程中，晶体三极管、二极管、电容、电阻和金属层的各种物理部件在晶圆表面或表层内构成。这些部件是每次在一个掩膜层上生成的，并且结合生成薄膜及去除特定部分，通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留特征图形的部分。光刻生产的目标是根据电路设计的要求，生成尺寸精确的特征图形，并且在晶圆表面的位置正确且与其它部件的关联正确。

光刻是所有四个基本工艺中最关键的。光刻确定了器件的关键尺寸。光刻过程中的错误可造成图形歪曲或套准不好，最终可转化为对器件的电特性产生影响。图形的错位也会导致类似的不良结果。光刻工艺中的另一个问题是缺陷。光刻是高科技版本的照相术，只不过是在难以置信的微小尺寸下完成。在制程中的污染物会造成缺陷。事实上由于光刻在晶圆生产过程中要完成5层至20层或更多，所以污染问题将会放大。

光刻机/紫外曝光机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻意思是用光来制作一个图形(工艺)；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

现有的光刻装置在使用时难以对不同直径的晶圆进行固定，从而影响光刻装置的使用，同时现有的光刻装置在对光刻机的位置进行调节时并不十分精确，从而影响光刻机的使用，进一步影响光刻效果，增加了电子元件生产时残次品的概率，降低了企业的经济效益。

发明内容

本发明的目的在于提供一种电子元件生产的光刻装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种电子元件生产的光刻装置，包括底座，所述底座的左右两侧对称固定安装有两块侧板，侧板的顶部固定安装有顶板；所述顶板底部的左右两侧对称固定安装有第一机架和第二机架，第一机架和第二机架的内侧转动安装有第二螺杆和第三螺杆,第二螺杆和第三螺杆的下端通过皮带传动连接；所述第二螺杆和第三螺杆上均螺纹连接有第二螺套和第三螺套，第二螺套和第三螺套均与顶板滑动连接；所述第三螺套的内侧固定安装有电机罩，电机罩的内部固定安装有第一电机，第一电机的输出端固定安装有第一螺杆，第一螺杆的另一端与第二螺套转动连接；所述第一螺杆上螺纹连接有第一螺套，第一螺套的上端与顶板滑动连接；所述第一螺套的下侧固定安装有伸缩装置，伸缩装置的伸缩端固定连接有光刻机；所述底座上的中间位置固定安装有固定装置，固定装置为中间开有圆槽的块状结构；所述固定装置位于圆槽的周围均匀开设有若干滑槽，滑槽的内部滑动安装有滑块，滑块的一端通过伸缩弹簧与滑槽固定连接，滑块的另一端固定安装有卡块。