[发明专利]偏置电流电路有效

专利信息
申请号: 201810443244.5 申请日: 2018-05-10
公开(公告)号: CN108536208B 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 唐成伟;王鑫 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G05F1/56 分类号: G05F1/56
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 偏置 电流 电路
【说明书】:

发明公开了一种偏置电流电路,包括:偏置电流主体单元、输出单元和电源电压自适应单元;偏置电流主体单元,包括第一和二PMOS管、第一和二NMOS管和第一电阻;第一NMOS管和第一PMOS管组成第一电流路径;第一电阻、第二NMOS管和第二PMOS管组成第二电流路径;电源电压自适应单元包括第三MOS晶体管、上拉电流源和下拉电流源;第三MOS晶体管连接在第一和二PMOS管的栅极连接的第一节点和第二NMOS管和第二PMOS管的漏极连接的第二节点之间,上拉电流源和第一PMOS管呈镜像结构,上下拉电流源的电流大小相等。本发明能扩展电路的低压应用范围,使电路在高低压下都能正常工作。

技术领域

本发明涉及一种半导体集成电路,特别是涉及一种偏置电流电路。

背景技术

如图1所示,是现有偏置电流电路的结构图;包括由PMOS管P1和NMOS管N1连接形成的第一电流路径,由PMOS管P2、NMOS管N2和电阻R1连接形成的第二电流路径,由PMOS管P3组成的输出路径。PMOS管P1和P2和P3连接形成镜像结构,PMOS管P1和P2和P3的源极都连接电源电压VCC,PMOS管P1和P2和P3的栅极都连接到节点NET2。PMOS管P3的漏极输出偏置电流I1。

PMOS管P1的漏极、NMOS管N1的漏极和栅极以及NMOS管N2的栅极都连接节点NET1。NMOS管N2的漏极连接节点NET2。

NMOS管N1的源极都接地。电阻R2连接在NMOS管N2的源极和地之间。

图1所示的结构在电源电压VCC较大时能够很好的工作。但是,随着手持设备的普及,出现了越来越多的低压低功耗需求,偏置电流电路应用于各种模拟电路中,对于更低的工作电压即图1中的电源电压VCC也成为了一个挑战。由图1所示可知,电路正常工作时,电源电压VCC和节点NET2的电压差要大于PMOS管P1的阈值电压,节点NET1的电压要大于NMOS管N1的阈值电压。当电源电压VCC降低时,节点NET1和NET2的电压也会降低,电源电压VCC和节点NET2的电压差以及节点NET1的电压可能会接近或小于对应的PMOS管或NMOS管的阈值电压,从而会影响电路的性能。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种偏置电流电路,能扩展电路的低压应用范围,使电路在高低压下都能正常工作。

为解决上述技术问题,本发明提供的偏置电流电路包括:偏置电流主体单元、输出单元和电源电压自适应单元。

偏置电流主体单元,包括第一PMOS管、第二PMOS管、第一NMOS管、第二NMOS管和第一电阻。

所述第一PMOS管的栅极和所述第二PMOS管的栅极都连接到第一节点并组成镜像结构。

所述第一PMOS管的源极和所述第二PMOS管的源极都连接电源电压。

所述第一NMOS管的漏极连接所述第一PMOS管的漏极,所述第一NMOS管的源极接地。

所述第二NMOS管的漏极和所述第二PMOS管的漏极都连接到第二节点,所述第二NMOS管的源极连接所述第一电阻的第一端,所述第一电阻的第二端接地。

由所述第一NMOS管和所述第一PMOS管组成第一电流路径;由所述第一电阻、所述第二NMOS管和所述第二PMOS管组成第二电流路径。

所述输出单元和所述第一PMOS管镜像并输出偏置电流。

所述电源电压自适应单元包括第三MOS晶体管、上拉电流源和下拉电流源。

所述第三MOS晶体管的第一端连接所述第一节点,所述第三MOS晶体管的第二端连接所述第二节点,所述第三MOS晶体管的第三端为栅极且连接到使所述第三MOS晶体管保持导通的电位。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司,未经上海华虹宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810443244.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top