[发明专利]一种烧结钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法在审
申请号: | 201810438127.X | 申请日: | 2018-05-09 |
公开(公告)号: | CN108364780A | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 郭开祥;曹玉杰;黄秀莲;陈静武;熊永飞 | 申请(专利权)人: | 安徽大地熊新材料股份有限公司 |
主分类号: | H01F41/02 | 分类号: | H01F41/02;H01F1/057 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 汪贵艳;金凯 |
地址: | 231500 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钕铁硼磁体 烧结钕铁硼磁体 底涂 预处理 耐蚀涂层 前处理液 涂液 制备 浸泡 蒸馏水 钕铁硼产品 腐蚀介质 混合配制 加工成型 喷涂处理 加速剂 结合力 抗高温 抗老化 孔隙率 皮膜剂 面涂 耐蚀 | ||
1.一种烧结钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,包括将加工成型的钕铁硼磁体进行预处理,其特征在于:还包括以下步骤:
a.浸泡:将预处理后的钕铁硼产品浸泡在前处理液中,所述前处理液由蒸馏水、皮膜剂和加速剂混合配制而成;
b.底涂:将ZnAl涂液底涂在浸泡后的钕铁硼磁体表面,得到底涂有ZnAl涂层的钕铁硼磁体;
c.面涂:将富Al涂液面涂在经步骤b处理后的钕铁硼磁体表面,得到高耐蚀的钕铁硼磁体。
2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤a和步骤b之间还包括预烘烤过程,所述预烘烤过程中,预烘烤温度为60~90℃,预烘烤时间为2~5min。
3.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,其特征在于:所述预处理是将加工成型的钕铁硼磁体依次进行倒角、碱洗、酸洗和水洗处理;
所述倒角处理,使倒角的R角为0.1~0.6mm;
所述碱洗将钕铁硼磁体装入网袋中置于碱液中浸泡,所述碱液中加有表面活性剂;
所述酸洗使用的酸洗液浓度为3%~6%的硝酸,酸洗时间为40~80s;
所述水洗将酸洗后的钕铁硼磁体置于蒸馏水中超声清洗,清洗时间为1~3min。
4.根据权利要求3所述的钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,其特征在于:所述表面活性剂为OP乳化剂。
5.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,其特征在于:所述皮膜剂为YL-701纳米无磷皮膜剂,所述加速剂为YL-702加速剂;所述前处理液中蒸馏水、YL-701纳米无磷皮膜剂和YL-702加速剂的体积比为800~1200:40~60:5~15,钕铁硼磁体在前处理液中浸泡时间为2~5min。
6.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,其特征在于:所述底涂使用的ZnAl涂液粘度为26~34s,涂液温度为15~30℃;所述底涂过程包括喷涂、表干与固化、烘烤,钕铁硼磁体正反面依次进行上述底涂过程。
7.根据权利要求6所述的钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,其特征在于:所述喷涂的工艺参数为喷涂油量15~30ml/min,喷控压力0.4~0.6MPa,雾化压力0.2~0.26MPa;所述表干与固化温度为100~130℃,时间为2~10min;所述烘烤,磁体正面烘烤温度为100~140℃,烘烤时间为20~50min;磁体反面烘烤温度为210~240℃,烘烤时间为20~50min。
8.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,其特征在于:所述面涂使用的富Al涂液粘度为28~38s,涂液温度为15~30℃;所述面涂过程包括喷涂、表干与固化、烘烤,钕铁硼磁体正反面依次进行上述面涂过程。
9.根据权利要求8所述的钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,其特征在于:所述面涂过程,磁体正面与反面相同;所述喷涂的工艺参数为喷涂油量15~30ml/min,喷控压力0.4~0.6MPa,雾化压力0.2~0.26MPa;所述表干与固化温度为100~130℃,时间为2~10min;所述烘烤,其烘烤温度为180~220℃,烘烤时间为20~50min。
10.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面高耐蚀涂层的制备方法,其特征在于:所述ZnAl涂层和富Al涂层的涂层厚度均为6~20μm。
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