[发明专利]一种二维转顶精度检测方法有效
申请号: | 201810425229.8 | 申请日: | 2018-05-07 |
公开(公告)号: | CN108489396B | 公开(公告)日: | 2019-11-01 |
发明(设计)人: | 孔德旺;王玉伟;莫崇江 | 申请(专利权)人: | 北京环境特性研究所 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01B11/16 |
代理公司: | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人: | 周娇娇;张沫 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二维 方位运动 俯仰运动 精度检测 反射器 方位角 俯仰角 激光跟踪仪 角度间隔 方位轴 俯仰轴 正交 采集 空载状态 散射技术 全面性 检测 | ||
本发明涉及一种二维转顶精度检测方法,涉及电磁散射技术领域。其中,该方法包括:将二维转顶的俯仰角和方位角调至初始角度,以第一角度间隔使二维转顶作方位运动,通过激光跟踪仪采集反射器在每个理论方位角下的坐标;以第二角度间隔使二维转顶作俯仰运动,通过激光跟踪仪采集反射器在每个理论俯仰角下的坐标;根据所述反射器在每个理论方位角下的坐标以及在每个理论俯仰角下的坐标,确定空载状态下二维转顶方位运动、俯仰运动的定位精度以及方位轴和俯仰轴的正交度。通过以上步骤,能够提高检测获得的方位运动、俯仰运动定位精度的准确性,实现方位轴与俯仰轴正交度的检测,提高二维转顶精度检测的全面性。
技术领域
本发明涉及技术领域,尤其涉及一种二维转顶精度检测方法。
背景技术
雷达散射截面(RCS,radar cross section)测量是研究目标电磁散射特性的重要方法。紧缩场RCS测量系统主要由屏蔽微波暗室、紧缩场、二维低散射金属支架、一维泡沫支架、信号收发与采集处理设备、测量辅助设备等组成。二维低散射金属支架是支撑结构中的一种,其具有较强的负重能力,能够实现目标在方位以及俯仰二维方向上的连续运动,以模拟目标运动状态的姿态角。
二维转顶是二维低散射金属支架上用于安装被测目标的结构,测试中可通过二维转顶外壳的方位转动和转顶的整体俯仰来精确控制目标在方位和俯仰二维方向上的姿态角。方位和俯仰角度的转动可通过控制系统和上位机的编程实现。
在RCS测试中,通过二维转顶外壳的方位转动和转顶的整体俯仰可精确控制目标在方位和俯仰二维方向上的姿态角。二维转顶的运动定位精度决定了RCS测试目标的运动定位精度。因此,对二维转顶的精度进行检测有重要意义。
二维转顶精度的传统检测方法主要包括:1)使用电子水平仪检测俯仰运动定位精度,包括以下步骤:将俯仰调整至水平位置(即俯仰角为0),初始化电子水平仪,按照5°间隔旋转被测轴,记录每个角度下电子水平仪的度数;2)使用平面镜-光电自准直仪检测方位运动定位精度,主要包括以下步骤:在二维转顶顶面中心安装一可以调整的棱体反射镜,将光电自准直仪(简称“光管”)、二维转顶以及二维转顶支撑基座架设在同一隔振基础上,调整光管位置使光轴与被测轴线(即方位轴)对准,按照30°间隔旋转被测轴,记录每个角度下光管调整的角度度数。
在实现本发明的过程中,本发明的发明人发现现有技术存在以下问题:1)传统的检测方法的检测精度低,且无法检测出方位轴与俯仰轴的正交度。2)由于二维转顶具有体积小,承重大,偏心大等特点,在偏心重载的情况下,二维转顶的整体形变对方位和俯仰精度的影响愈发的不容忽视。然而,传统的检测方法无法反映二维转顶整体形变对精度的影响。3)使用光管进行方位运动定位精度检测,只能在二维转顶处于水平状态进行方位运动定位精度检测。如果需要在二维转顶俯仰后进行方位运动定位精度检测,则需要单独制作多维度调节工装,校准测量难度很大,实际测量时很难实现。
因此,针对以上不足,需要提供一种新的二维转顶精度检测方法及系统。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术中的缺陷,提供一种二维转顶精度检测方法和系统,能够提高检测获得的方位运动、俯仰运动定位精度的准确性,实现方位轴与俯仰轴正交度的检测,提高二维转顶精度检测的全面性。
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种二维转顶精度检测方法。
本发明的二维转顶精度检测方法包括:步骤A、将反射器放置在二维转顶的顶面,并令经由所述反射器反射的激光方向指向激光跟踪仪;步骤B、将二维转顶的俯仰角和方位角调至初始角度,以第一角度间隔使所述二维转顶作方位运动,通过所述激光跟踪仪采集所述反射器在每个理论方位角下的坐标;以第二角度间隔使所述二维转顶作俯仰运动,通过激光跟踪仪采集所述反射器在每个理论俯仰角下的坐标;步骤C、根据所述反射器在每个理论方位角下的坐标以及在每个理论俯仰角下的坐标,确定空载状态下二维转顶方位运动、俯仰运动的定位精度以及方位轴和俯仰轴的正交度。
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