[发明专利]基于银纳米线电极的高效柔性量子点发光二极管及其制备在审

专利信息
申请号: 201810420908.6 申请日: 2018-05-04
公开(公告)号: CN108598273A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 王磊;丁可;方云生;胡彬 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 许恒恒;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子点 发光二极管 银纳米线 制备 纳米氧化锌 电极 电子传输性能 纳米氧化锌层 器件制备工艺 柔性透明电极 电子传输层 对电极表面 空穴传输层 空穴注入层 出光效率 发光效率 复合电极 关键参数 金属阳极 柔性基底 透明电极 透明阴极 发光层 有效地 修饰 嵌入 平整 透明 改进 保证
【说明书】:

发明公开了一种基于银纳米线电极的高效柔性量子点发光二极管及其制备,该基于银纳米线透明电极的柔性量子点发光二极管,其特征在于,自下而上包括柔性透明阴极、电子传输层、量子点发光层、空穴传输层、空穴注入层以及金属阳极;其中,所述柔性透明阴极为银纳米线嵌入柔性基底所制备的复合电极。本发明通过对相应器件制备工艺的关键参数与条件等进行改进,利用纳米氧化锌对电极表面进行修饰,得到了平整纳米氧化锌层表面,这保证了纳米氧化锌的电子传输性能,最终充分发挥了银纳米线柔性透明电极增强柔性量子点发光二极管出光效率的作用,有效地提升柔性量子点发光二极管的发光效率至世界领先水平。

技术领域

本发明属于量子点发光二极管领域,更具体地,涉及一种基于银纳米线电极的高效柔性量子点发光二极管及其制备方法,该柔性量子点发光二极管基于银纳米线透明电极增强发光器件出光效率的作用,是一种高效的柔性量子点发光二极管。

背景技术

量子点发光二极管(QLED)自1994年被发现以来(V.L.Colvin,M.C.Schlamp,A.P.Alivisatos.Light-Emitting Diodes Made from Cadmium Selenide Nanocrystalsand a Semiconducting Polymer.Nature 1994,370(6488),354-357),在至今为止的30多年里受到了人们的大力关注和广泛研究。QLED的外量子效率从刚开始不到0.01%发展到接近21%(Xingliang Dai,Zhenxing Zhang,Yizheng Jin,Yuan Niu,Hujia Cao,XiaoyongLiang,Liwei Chen,Jianpu Wang,Xiaogang Peng.Solution-Processed,High-Performance Light-Emitting Diodes Based on Quantum Dots.Nature 2014,515(7525),96-99),QLED之所以受到人们的广泛研究是因为器件制备的简单性、成本低的优点,同时也得益于QLED器件中的核心材料量子点合成简单、发光峰位置可调、发光光谱半高宽窄、量子产率高等优点。随着QLED的迅猛发展,其在柔性光电子如可穿戴、可弯折、柔性显示与照明设备方面的需求日趋急迫,然而柔性QLED的发展却十分缓慢,目前报道的最高效率不到15%(Rongmei Yu,Furong Yin,Xiaoyu Huang,Wenyu Ji.Molding HemisphericalMicrolens Arrays on Flexible Substrates for Highly Efficient Inverted QuantumDot Light Emitting Diodes.J.Mater.Chem.C 2017,5(27),6682-6687),远远落后于非柔性QLED的发展,低于柔性光电子器件的需求水平。

限制柔性QLED发展的关键因素是柔性电极的性能及QLED器件中的光损耗。目前报道的柔性电极的制备方法大多是在柔性透明基底上蒸镀或者溅射常规电极,比如说氧化铟锡(ITO)、金属银等,这种透明电极本质上是非柔性电极,不利于柔性QLED的性能提升;其次,QLED器件中,由于各层折射率的差异,在波导模式中的光损耗高达40%,基底模式中损耗占比20%,如果按照内量子效率100%算的话,加上器件中光的吸收损耗与表面等离子基元损耗,理论上出光效率不到20%(Ruidong Zhu,Zhenyue Luo,Shin-TsonWu.Opt.Express 2014,22(S7),A1783-A1798)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810420908.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top