[发明专利]一种太阳能反光膜及其制作方法

权利要求书

1.一种太阳能反光膜，其特征在于：包括起到粘接作用的EVA热熔胶层、基底PET层、有序排布的微结构层、具有反光作用的铝层和具有保护作用的保护层,基底PET层下部设置有起到粘接作用的EVA热熔胶层，基底PET层上部设置有有序排布的微结构层，有序排布的微结构层上部设置有反光作用的铝层，反光作用的铝层上部设置有具有保护作用的保护层。

2.根据权利要求1所述的一种太阳能反光膜，其特征在于：所述的微结构层为棱镜结构，其中棱镜结构的高度为10~20μm，棱镜结构基台高度在5~8μm，棱镜结构周期为50~80μm。

3.根据权利要求1所述的一种太阳能反光膜，其特征在于：所述的基底PET层薄膜厚度为50~80μm。

4.权利要求1所述的一种太阳能反光膜制作方法，其特征在于，制作流程具体如下：

步骤一：精密涂布：通过带有微结构的辊、紫外固化胶和紫外固化设备的协同作用下，在基底PET薄膜上制造微结构，形成有序排布的微结构层；

所述的紫外固化胶为聚丙烯酸酯类、聚氨酯丙烯酸酯类或者聚环氧丙烯酸酯类；精密涂布辊速度为10-30m/min，胶水的温度为30-65℃，膜压压力为1-6kg/cm²，固化紫外灯为无极灯H型；

步骤二：镀铝：通过真空蒸镀的方式将铝镀到微结构表面；

步骤三：铝层表面镀保护膜：采用干式涂布或湿式涂布；1）干式涂布，先将单体材料在密闭的罐体内，温度为26~30℃，压强为0.8~0.9个大气压，挥发成气体，然后按一定的流量充进真空室，真空室内压强为20~50Pa，铝膜表面形成一层薄膜，对已镀的铝膜表面进行保护，保护膜厚度约为20~100nm；2）湿式涂布，将有机硅聚合材料作为成膜物质，采用湿式涂布方式均匀的涂覆在铝层表面，保护膜厚度约为10~30μm；

步骤四：淋膜EVA胶；在上述铝层表面镀保护膜完成后，在基底PET薄膜下部淋膜EVA胶，形成起到粘接作用的EVA热熔胶层，制成太阳能反光膜；

步骤五：分条，将制成太阳能反光膜分切成条状，制成太阳能反光膜成品。

5.根据权利要求4所述的一种太阳能反光膜制作方法，其特征在于，步骤一微结构为棱镜结构，其中棱镜结构的高度为10~20μm，棱镜结构基台高度在5~8μm，棱镜结构周期为50~80μm；PET薄膜厚度为50~80μm；紫外固化胶为聚丙烯酸酯类、聚氨酯丙烯酸酯类或者聚环氧丙烯酸酯类；精密涂布辊速度为10-30m/min，胶水的温度为30-65℃，膜压压力为1-6kg/cm²，固化紫外灯为无极灯H型。

6.根据权利要求4所述的一种太阳能反光膜制作方法，其特征在于，步骤二镀铝通过真空蒸镀方式，反光层为铝，铝纯度大于99.9%，反光层厚度为10-200nm，蒸镀真空度达到1×10^-2~1×10^-3Pa，镀铝速度为250-400m/min。

7.根据权利要求4所述的一种太阳能反光膜制作方法，其特征在于，步骤三所述的干式涂布为真空蒸镀方式，单体材料为六甲基二硅氧烷；湿式涂布为刮刀式精密涂布方式，有机硅材料配方为甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷（KH570）水解产物含量为80~90份，正硅酸乙酯水解产物硅溶胶含量为10~20份，制备成有机-无机复合透明耐磨涂层。

8.根据权利要求4所述的一种太阳能反光膜制作方法，其特征在于，步骤三所述的湿式涂布为刮刀式精密涂布方式；有机硅材料配方为甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷（KH570）水解产物含量为80~90份，正硅酸乙酯水解产物硅溶胶含量为10~20份，制备成有机-无机复合透明耐磨涂层。

9.根据权利要求4所述的一种太阳能反光膜制作方法，其特征在于，步骤四EVA胶层厚度为20~30μm。

10.根据权利要求4所述的一种太阳能反光膜制作方法，其特征在于，步骤五分条宽度在1~2mm。