[发明专利]一种掩膜板及其制备方法

说明书

本发明涉及蒸镀技术领域，公开一种掩膜板及其制备方法，其中，掩膜板包括掩膜本体和形成在所述掩膜本体上的涂层；其中：所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。上述掩膜板，由于其掩膜本体表面具有涂层，且该涂层对有机材料的吸附性比较差，进而，在利用该掩膜板进行蒸镀时，蒸镀材料不易吸附于该掩膜板上，因此，该掩膜板的开口不易发生堵塞，从而该掩膜板的使用寿命较长；并且，该掩膜板可以具有较高的精度和较小的图案开口，尤其适合制备高PPI的OLED产品，可以提高产品的蒸镀良率。

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种掩膜板及其制备方法。

背景技术

目前，有机电致发光显示器(OLED，Organic Light Emitting Display)主要包括白光OLED(WOLED)和红、绿、蓝像素并置型(RGB-SBS，Side-By-Side)OLED，其中，RGB-SBS型OLED产品具有亮度损失小及色域高的优点，因此，在微显示领域，尤其是虚拟现实(VR)和增强现实(AR)显示领域中，RGB-SBS型OLED是一种必然的趋势。

现有技术中，RGB-SBS型OLED产品主要采用精细金属掩膜板(FMM)分别蒸镀R、G、B像素来制备。然而，对于像素(PPI)较高的RGB-SBS型OLED产品，例如微显示OLED产品，由于其需要的精细蒸镀掩膜板的精度往往比较高，开口尺寸比较小，因此，在掩膜板使用过程中，很容易导致掩膜板开口堵塞，从而使产品品质受损。

发明内容

本发明公开了一种掩膜板及其制备方法，用于避免掩膜板的开口堵塞，提高蒸镀产品良率。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

一种掩膜板，包括掩膜本体和形成在所述掩膜本体上的涂层；其中：

所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。

上述掩膜板，由于其掩膜本体表面具有涂层，且该涂层对有机材料的吸附性比较差，进而，在利用该掩膜板进行蒸镀时，蒸镀材料不易吸附于该掩膜板上，因此，该掩膜板的开口不易发生堵塞，使用寿命较长；具体地，该掩膜板可以具有较高的精度和较小的图案开口，尤其适合制备高PPI的OLED产品，可以提高产品的蒸镀良率。

一种可选的实施例中，所述涂层包括金属涂层或者特氟龙涂层。

一种可选的实施例中，所述涂层包围所述掩膜本体，所述掩膜本体的开口尺寸与所述掩膜板的实际开口尺寸之差等于所述涂层厚度的两倍。

一种可选的实施例中，所述涂层形成在所述掩膜本体朝向蒸镀装置的一侧。

一种掩膜板的制备方法，包括：

制备掩膜本体；

在掩膜本体上形成涂层，所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。

一种可选的实施例中，所述涂层包括金属涂层或者特氟龙涂层。

一种可选的实施例中，所述在掩膜本体上形成涂层，包括：

在掩膜本体表面电镀涂层，所述涂层包围所述掩膜本体，其中，所述掩膜本体的开口尺寸与所述掩膜板的实际开口尺寸之差等于所述涂层厚度的两倍。

一种可选的实施例中，所述掩膜本体的开口尺寸为5um；所述涂层的厚度为0.5um。

一种可选的实施例中，所述在掩膜本体上形成涂层，包括：

在掩膜本体朝向蒸镀装置的一侧表面喷涂涂层。

一种可选的实施例中，所述涂层的厚度为2-5um。

附图说明

图1为本发明一实施例提供的一种掩膜板的结构示意图；