[发明专利]一种蒸镀用掩膜板在审
| 申请号： | 201810381805.3 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108559945A | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 罗程远 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸镀 隔垫物 掩膜板 板状本体 蒸镀基板 结合力 剥落 嵌设 通孔 掩膜 外部 制作 | ||
1.一种蒸镀用掩膜板，包括：板状本体，该板状本体上开设有若干个通孔，该板状本体在蒸镀时朝向待蒸镀基板的一侧连接有隔垫物；其特征在于，
所述板状本体在蒸镀时朝向待蒸镀基板的一侧设置有凹槽，所述隔垫物的一部分嵌设于所述凹槽内，另一部分凸出于所述凹槽的外部。
2.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，
通过刻蚀的方法在所述板状本体在蒸镀时朝向待蒸镀基板的一侧形成所述凹槽。
3.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，
所述凹槽的深度为所述板状本体的厚度的30％-80％。
4.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，
所述隔垫物凸出于所述凹槽的外部的部分为柱状结构，且所述柱状结构的最大截面尺寸大于等于所述凹槽的最大截面尺寸。
5.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，
通过光刻的方法形成所述隔垫物。
6.根据权利要求1-5任一项所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，
所述凹槽和所述隔垫物之间还形成有偶联剂层。
7.根据权利要求6所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，
所述偶联剂层为硅烷偶联剂，且所述硅烷偶联剂中添加有防腐蚀剂和界面反应催化剂。
8.根据权利要求1-5任一项所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，
所述板状本体连接有隔垫物的一侧还覆盖有用于防止所述隔垫物掉落的保护层。
9.根据权利要求8所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，
所述保护层在所述板状本体上的投影与所述板状本体未设置通孔的部分完全重叠。
10.根据权利要求8所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，
所述保护层为通过化学沉积或物理沉积方法形成在所述板状本体连接有隔垫物的一侧的金属氧化物薄膜。
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