[发明专利]一种环流静压式磁流变抛光装置有效
| 申请号： | 201810379340.8 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108311961B | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 宋万里;李红亮;牛天荧;石沛;王娜 | 申请（专利权）人： | 东北大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 11613 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 110169 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光头 励磁装置 磁流变液 工件内壁 磁流变抛光装置 环流 静压式 磁场 电磁铁 工件表面材料 中心位置处 工件安装 抛光处理 旋转作用 压力均匀 周向分布 剪切 等静压 矩形孔 可控性 永磁体 抛光 凹坑 固化 去除 流出 施加 | ||
【权利要求书】：
1.一种环流静压式磁流变抛光装置，包括励磁装置、磁流变液、抛光头，其特征在于：所述励磁装置包括永磁体和电磁铁，所述抛光头相对于励磁装置分离地固定设置在所述励磁装置所产生的磁场范围内，且所述励磁装置位于所述抛光头的外部；
所述抛光头包括空腔，所述磁流变液容纳在所述空腔中，所述抛光头的周向分布有孔，用以使磁流变液在励磁装置的激励下从所述空腔中流出。
2.根据权利要求1所述的一种环流静压式磁流变抛光装置，其特征在于：所述抛光头表面分布有多个凹坑。
3.根据权利要求1所述的一种环流静压式磁流变抛光装置，其特征在于：所述抛光头直径小于待加工工件直径1mm～3mm。
4.根据权利要求1所述的一种环流静压式磁流变抛光装置，其特征在于：所述抛光头周向分布的孔为三个均匀分部的矩形孔，相邻的两个矩形孔间隔为120°。
5.根据权利要求1所述的一种环流静压式磁流变抛光装置，其特征在于：所述电磁铁包括U形铁芯与励磁线圈，所述励磁线圈缠绕在U形铁芯两侧，所述电磁铁开口处两端平行相对固定连接两块极性相反的永磁体。
6.根据权利要求5所述的一种环流静压式磁流变抛光装置，其特征在于：所述励磁装置中的永磁体为钕铁硼磁铁。
7.根据权利要求1～6任一项所述的一种环流静压式磁流变抛光装置，其特征在于：所述抛光头材质为非导磁材料。
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