[发明专利]滤波器装置和等离子体处理装置

说明书

本发明提供一种具有能够配置在小的空间中的多个线圈的滤波器装置和等离子体处理装置。滤波器装置具备多个线圈和多个电容器。多个线圈构成多个线圈组。多个线圈组各自包括两个以上的线圈。在多个线圈组的各个线圈组中，两个以上的线圈设置为：各个线圈的卷绕部绕中心轴线螺旋状地延伸，且各个线圈的单匝线圈沿着中心轴线所延伸的轴线方向依次重复地排列。多个线圈组相对于中心轴线同轴地设置。多个线圈组中的任意一个线圈组的两个以上的线圈各自的单匝线圈间的间距比多个线圈组中的设置于该一个线圈组的内侧的线圈组的两个以上的线圈各自的单匝线圈间的间距大。

技术领域

本公开的实施方式涉及一种滤波器装置和等离子体处理装置。

背景技术

在半导体器件这样的电子元件的制造中使用等离子体处理装置。等离子体处理装置具备腔室主体、工作台以及高频电源。腔室主体提供其内部空间来作为腔室。工作台设置在腔室内，构成为对载置在该工作台上的被加工物进行保持。工作台包括下部电极和静电卡盘。下部电极与高频电源连接。

在等离子体处理装置中执行的等离子体处理中，需要调整被加工物的面内的温度分布。为了调整被加工物的面内的温度分布，有时工作台具有多个加热器。多个加热器各自经由多个供电线而与加热器控制器连接。

从高频电源向工作台的下部电极供给高频。被供给到下部电极的高频会流入多个供电线。因而，在多个供电线的各个供电线设置用于切断高频或使高频衰减的滤波器。

在专利文献1所记载的等离子体处理装置中，使用多个滤波器。多个滤波器各自具有线圈和电容器。线圈构成供电线的一部分，且被收纳在壳体内。壳体由导体形成。壳体的电位被设定为接地电位。电容器连接在线圈与地之间。在多个滤波器的各个滤波器中，线圈和壳体形成分布常数线路。多个滤波器各自具有多个谐振频率。这些多个滤波器的线圈设置于等离子体处理装置的腔室主体的正下方。

专利文献1：日本特开2014-99585号公报

发明内容

发明要解决的问题

在等离子体处理装置的腔室主体的正下方设置有各种部件，因此在腔室主体的正下方能够利用的空间的大小有限。因而，当设置于等离子体处理装置的工作台的多个加热器的个数增多时，难以将多个滤波器的线圈配置在腔室主体的正下方的空间中。因而，需要将多个滤波器的线圈配置于从腔室主体离开的位置，在多个滤波器的线圈与加热器控制器之间需要长的供电线。长的供电线由于寄生电容而使多个滤波器的阻抗下降。因而，需要能够将多个滤波器的线圈配置在小的空间中。

用于解决问题的方案

在一个方式中，提供一种滤波器装置。滤波器装置具备多个线圈、多个电容器以及框架。多个电容器分别连接在多个线圈与地之间。框架电接地，在该框架中收纳有多个线圈。即，滤波器装置具备多个滤波器，各滤波器分别包括线圈和电容器。多个线圈构成多个线圈组。多个线圈组各自包括两个以上的线圈。在多个线圈组的各个线圈组中，两个以上的线圈设置为：各个线圈的卷绕部绕中心轴线螺旋状地延伸，且各个线圈的单匝线圈沿着中心轴线所延伸的轴线方向依次重复地进行排列。换言之，多个线圈组各自所包括的两个以上的线圈的卷绕部沿着轴线方向多层状地排列，并且绕中心轴线螺旋状地设置。多个线圈组相对于中心轴线同轴地设置。多个线圈组中的任意一个线圈组的两个以上的线圈的各个线圈的单匝线圈之间的间距比多个线圈组中的、设置于该一个线圈组的内侧的线圈组的两个以上的线圈的各个线圈的单匝线圈间的间距大。