[发明专利]一种适用于致密油储层的CO2

权利要求书

1.一种适用于致密油藏开发的CO₂敏感的压裂-排驱体系，其特征在于，该体系包括由表面活性剂、助剂和水组成的基液；以及，富含在基液中的液态或/和超临界CO₂；

所述适用于致密油藏开发的CO₂敏感的压裂-排驱体系，基液为以下两类之一：

类型2：阴离子型基液由阴离子表面活性剂、助剂和水构成；

类型3：两性离子型基液由两性离子表面活性剂、助剂和水构成；

当助剂使用于阴离子型基液时，所述助剂为反离子助表面活性剂和液态/超临界CO₂乳化剂；反离子助表面活性剂为具有CO₂敏感的非离子助表面活性剂；

当助剂使用于两性离子型基液时，所述助剂为反离子助表面活性剂和液态/超临界CO₂乳化剂；反离子助表面活性剂为具有CO₂敏感的非离子助表面活性剂和阴离子助表面活性剂的复配；其中，CO₂敏感的非离子表面活性剂和阴离子助表面活性剂的质量比为2：（0.5-8）；

其中，所述具有CO₂敏感的非离子助表面活性剂为N,N,N',N'-四甲基-1,3-丙二胺、3-二乙胺基丙胺、N,N-二甲基对苯二胺、四甲基-乙二胺、二(2-羟丙基)胺、N-(2-羟乙基)乙二胺、三乙醇胺、二异丙醇胺、1，4-丁二胺、异丙醇胺、二正丙胺、二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺或/和N-甲基二乙醇胺；

其中，所述阴离子助表面活性剂为水杨酸钠、水杨酸钾、对甲苯磺酸钠、对甲苯磺酸钾、十二烷基硫酸钠、十二烷基硫酸钾、十二烷基磺酸钠、十二烷基磺酸钾、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基苯磺酸钾、马来酸钠、马来酸钾、苯甲酸钠、苯甲酸钾、对苯二甲酸钠和/或对苯二甲酸钾；

所述液态/超临界CO₂乳化剂为双(2-乙基己基)琥珀酸酯磺酸钠、TX-100、氟碳类表面活性剂中的一种或多种；

其中，以体系总质量计，所述表面活性剂含量为2-8wt%，所述助剂含量为1-3wt%，所述液态或/和超临界CO₂含量为10-30wt%。

2.根据权利要求1所述适用于致密油藏开发的CO₂敏感的压裂-排驱体系，其中，所述阴离子表面活性剂为长链羧酸盐、长硫酸盐或/和长链烷基磺酸盐。

3.根据权利要求2所述适用于致密油藏开发的CO₂敏感的压裂-排驱体系，其中，所述长链羧酸盐为油酸钠、油酸钾、亚油酸钠、长链烷基羧酸钠、长链烷基羧酸钾或脂肪醇聚氧乙烯醚羧酸钠，所述长硫酸盐为长链烷基硫酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠或长链烷基醇醚硫酸钠，所述长链烷基磺酸盐为长链烷基磺酸钠、长链烷基苯磺酸钠或脂肪酸甲酯磺酸钠。

4.根据权利要求1所述适用于致密油藏开发的CO₂敏感的压裂-排驱体系，其中，所述两性离子表面活性剂为磺基甜菜碱或/和羧基甜菜碱。

5.根据权利要求4所述适用于致密油藏开发的CO₂敏感的压裂-排驱体系，其中，所述磺基甜菜碱为脂肪酰胺羟丙基磺基甜菜碱、长链烷基磺基甜菜碱或脂肪酰胺丙基磺基甜菜碱，所述羧基甜菜碱为长链烷基甜菜碱或脂肪酰胺甜菜碱。

6.一种权利要求1-5任意一项所述适用于致密油藏开发的CO₂敏感的压裂-排驱体系的制备方法，包括步骤如下：

将表面活性剂、助剂复配形成低粘度的基液，向基液中通入CO₂使其微观上形成蠕虫胶束，宏观上体系黏度大幅增加，体系增稠，且体系中富含液态/超临界CO₂，即得压裂-排驱体系。