[发明专利]一种激光熔覆成形难熔元素高熵合金涂覆层的制备方法

权利要求书

1.一种激光熔覆成形的由Mo、Nb、Ta、W四种元素组成的难熔元素高熵合金涂覆层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)Mo、Nb、Ta和W四种元素混匀后制成由Mo、Nb、Ta、W四种元素组成的高熵合金粉末，四种元素摩尔百分比为Mo：Nb：Ta：W＝(15-30)：(15-30)：(15-30)：(15-30)；

2)将步骤1)制备的由Mo、Nb、Ta、W四种元素组成的高熵合金粉末与粘接剂混合，涂覆于基体材料表面，干燥后制得熔覆预制层；

3)将步骤2)处理过的基体材料放入气氛保护装置，进行激光熔覆成形得到具有高熵合金涂覆层的基体材料；

所述气氛保护装置为：保护气体供应装置(1)通过两个管道分别与封闭的壳体(11)密封连接，两个管道均设有阀门；其中一个管道用于向壳体提供保护气体，另一管道在壳体内的一端连接吹气环(9)；壳体内底面设有可升降样品台(5)；壳体顶面设有激光透过视窗(10)；真空泵(6)和压力表(7)分别与壳体(11)连接，壳体外侧排气管道上设有壳体放气阀(8)；所述气氛保护装置中，吹气环(9)面向可升降样品台(5)的一面设有多个均匀分布的排气通孔(14)；激光透过视窗(10)的材质为激光透过率95％以上的石英玻璃；壳体(11)的材质为不锈钢。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述四种元素的摩尔百分比为Mo：Nb：Ta：W＝(20-30)：(20-30)：(20-30)：(20-30)。

3.如权利要求1-2任一所述的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述熔覆预制层厚度1～3mm，干燥温度为50-150℃，干燥时间为0.5-5h。

4.如权利要求1-2任一所述的制备方法，其特征在于，所述粘接剂为蔗糖溶液、聚乙烯醇或聚甲基丙烯酸甲酯，粘接剂质量百分比为0.5-5％；所述基体材料为金属。

5.如权利要求1-2任一所述的制备方法，其特征在于，步骤3)所述保护气体供应装置(1)串联连接保护气体供应装置(2)和/或保护气体供应装置(3)；所述保护气体供应装置(1、2、3)可供应相同或不同的保护气体。

6.如权利要求1-2任一所述的制备方法，其特征在于，激光熔覆的工艺参数为激光功率P＝1.5～4Kw，扫描速度V＝1～10mm/s，所述激光器为光纤激光器或半导体激光器。

7.权利要求1-6任一所述的制备方法制得的高熵合金涂覆层。

8.权利要求1-6任一所述的制备方法在制备耐高温材料中的应用。