[发明专利]一种界面增强的复合材料及其用途

权利要求书

1.一种界面增强的复合材料，其特征在于，所述复合材料包括：衬底和薄膜层；

所述衬底表面具有微纳米尺度的凹陷结构；

所述衬底上具有所述凹陷结构的面与所述薄膜层贴合；

所述衬底为柔性衬底，所述凹陷结构的深度大于等于所述薄膜层的厚度；

所述薄膜层的厚度为10nm-1000μm；

所述凹陷结构在所述衬底上周期性排列，所述凹陷结构的周期为20nm-1000μm。

2.根据权利要求1所述的复合材料，其特征在于，所述薄膜层为金属薄膜层、陶瓷薄膜层或高分子薄膜层。

3.根据权利要求2所述的复合材料，其特征在于，所述金属薄膜层的材料选自金、银、铂金、镍、铬或铜中的一种或至少两种的组合。

4.根据权利要求2所述的复合材料，其特征在于，所述陶瓷薄膜层的材料选自氧化物陶瓷、氮化物陶瓷或卤化物陶瓷中的一种或至少两种的组合。

5.根据权利要求2所述的复合材料，其特征在于，所述高分子薄膜层的材料为工程高分子材料或功能高分子材料。

6.根据权利要求5所述的复合材料，其特征在于，所述工程高分子为PC、PMMA、PS或PEEK。

7.根据权利要求5所述的复合材料，其特征在于，所述功能高分子材料为高分子半导体材料、高分子压电材料、高分子生物可降解材料或高分子磁性材料。

8.根据权利要求1所述的复合材料，其特征在于，所述凹陷结构的形成方法选自紫外固化纳米压印、热塑纳米压印、平面纳米压印、卷对卷纳米压印、卷对板纳米压印、光罩曝光、投影曝光、近场曝光、激光干涉、激光直写或机械雕刻中的一种或至少两种的组合。

9.根据权利要求1所述的复合材料，其特征在于，所述薄膜层的形成方法为磁控溅射、热蒸发、等离子体化学气相沉积、脉冲激光沉积、原子层沉积、液体旋涂、液体喷涂、悬拉涂布、原位聚合或热压。

10.一种如权利要求1-9任一项所述的复合材料的用途，其特征在于，所述复合材料用于蓝光LED器件的衬底、柔性电路板、OLED或QLED封装、挡风玻璃、飞机机体或汽车车身领域。