[发明专利]阴影绘制方法、装置、终端以及计算机可读存储介质在审

专利信息
申请号: 201810362693.7 申请日: 2018-04-20
公开(公告)号: CN110389761A 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 涂勇 申请(专利权)人: 广州优视网络科技有限公司
主分类号: G06F8/38 分类号: G06F8/38;G06F3/0484
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 张子青;刘芳
地址: 510627 广东省广州市天河区黄埔大*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 阴影 绘制 控件 计算机可读存储介质 绘制区域 图形绘制 算法 终端 用户界面控件 预先设置 迭代 节奏
【权利要求书】:

1.一种阴影绘制方法,其特征在于,用于对用户界面控件的阴影进行绘制,所述方法包括:

根据用户预先输入的阴影绘制请求确定需进行绘制阴影的至少一个View控件的阴影绘制区域;

获取对每个View控件进行阴影绘制操作的阴影绘制参数;

利用预先设置的图形绘制算法、并根据所述阴影绘制参数在每个View控件的阴影绘制区域绘制阴影。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述阴影绘制参数包括以下至少之一:阴影方向、阴影颜色、阴影四边圆角、阴影的扩散半径、阴影在阴影平面上的水平偏移值、阴影在阴影平面上的竖直偏移值。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述图形绘制算法包括用于对阴影的基本特性进行绘制的第一图形绘制算法;利用预先设置的图形绘制算法、并根据所述阴影绘制参数在每个View控件的阴影绘制区域绘制阴影,包括:

利用所述第一图形绘制算法、并根据所述阴影绘制参数在每个View控件的阴影绘制区域内对阴影的基本特性进行绘制;

所述阴影的基本特性包括以下至少之一:阴影方向、阴影颜色、阴影的扩散半径、阴影在阴影平面上的水平偏移值、阴影在阴影平面上的竖直偏移值。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其特征在于,所述图形绘制算法包括用于对阴影的圆角特性进行绘制的第二图形绘制算法,利用预先设置的图形绘制算法、并根据所述阴影绘制参数在每个View控件的阴影绘制区域绘制阴影,包括:

利用所述第二图形绘制算法、并根据所述阴影绘制参数在每个View控件的阴影绘制区域内对阴影的圆角特性进行绘制,所述阴影的圆角特性包括:阴影四边圆角。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,根据用户预先输入的阴影绘制请求确定需进行绘制阴影的至少一个View控件的阴影绘制区域,包括:

获取用户预先输入的至少一个阴影绘制请求;

根据所述阴影绘制请求确定至少一个View控件;

获取每个View控件所占用的工作区域;

根据所述阴影绘制请求将所述工作区域的四周在至少一个方向上进行扩展,生成至少一个扩展区域;

将生成的所有扩展区域确定为所述阴影绘制区域。

6.一种阴影绘制装置,其特征在于,用于对用户界面控件的阴影进行绘制,所述装置包括:

确定模块,用于根据用户预先输入的阴影绘制请求确定需进行绘制阴影的至少一个View控件的阴影绘制区域;

获取模块,用于获取对每个View控件进行阴影绘制操作的阴影绘制参数;

绘制模块,用于利用预先设置的图形绘制算法、并根据所述阴影绘制参数在每个View控件的阴影绘制区域绘制阴影。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述阴影绘制参数包括以下至少之一:阴影方向、阴影颜色、阴影四边圆角、阴影的扩散半径、阴影在阴影平面上的水平偏移值、阴影在阴影平面上的竖直偏移值。

8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述图形绘制算法包括用于对阴影的基本特性进行绘制的第一图形绘制算法;所述绘制模块,用于:

利用所述第一图形绘制算法、并根据所述阴影绘制参数在每个View控件的阴影绘制区域内对阴影的基本特性进行绘制;

所述阴影的基本特性包括以下至少之一:阴影方向、阴影颜色、阴影的扩散半径、阴影在阴影平面上的水平偏移值、阴影在阴影平面上的竖直偏移值。

9.根据权利要求6-8中任意一项所述的装置,其特征在于,所述图形绘制算法包括用于对阴影的圆角特性进行绘制的第二图形绘制算法,所述绘制模块,用于:

利用所述第二图形绘制算法、并根据所述阴影绘制参数在每个View控件的阴影绘制区域内对阴影的圆角特性进行绘制,所述阴影的圆角特性包括:阴影四边圆角。

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