[发明专利]用于制备金属结构的方法

权利要求书

1.用于制备金属结构的方法，包括以下步骤：

(a)将引发剂组合物施加到基底上以形成引发剂层，所述引发剂组合物包含光催化活性无机物质作为引发剂；

(b)将包含用于金属层的前体化合物的溶液的前体组合物施加到所述引发剂层上以形成前体组合物层；

(c)将结构模板施加到前体组合物层上，部分挤出前体组合物；

(d)通过在引发剂上的电磁辐射作用将前体化合物还原成金属，

其中光催化活性无机物质是以纳米棒的形式的TiO₂，且结构模板为图章。

2.如权利要求1中的方法，其中在步骤(d)之后通过冲洗表面移除未还原的过量前体组合物。

3.如权利要求1或2中的方法，其特征在于所述纳米棒具有小于100nm的直径和小于500nm的长度。

4.如权利要求3中的方法，其特征在于所述纳米棒具有小于50nm的直径和小于400nm的长度。

5.如权利要求1或2中的方法，其特征在于所述纳米棒具有30～100nm的长度，长度和直径的比值在10:1和3:1之间。

6.如权利要求1或2中的方法，其特征在于所述引发剂组合物在至少一种溶剂中包括纳米棒的分散体。

7.如权利要求6中的方法，其特征在于所述纳米棒的比例是小于20重量％。

8.如权利要求7中的方法，其特征在于所述纳米棒的比例是在0.5～3重量％。

9.如权利要求6的方法，其特征在于所述溶剂是具有沸点小于150℃的溶剂。

10.如在前述权利要求任一项的方法，其特征在于结构模板包括具有小于500μm最小横向尺寸的结构。

11.如权利要求1至9中任一项的方法，其特征在于前体化合物为银、金或铜复合物。

12.如权利要求11中的方法，其特征在于所述复合物包括螯合配体。

13.如权利要求12中的方法，其特征在于所述螯合配体是具有多个羟基和/或氨基的化合物。

14.如权利要求13中的方法，其特征在于所述具有多个羟基和/或氨基的化合物具有小于200g/mol的分子量。

15.如权利要求1至9中任一项的方法，其特征在于引发剂组合物的施加之前预处理基底的表面，所述预处理包括等离子处理、电晕处理、火焰处理和/或施加并固化有机-无机涂层。

16.如权利要求1至9中任一项的方法，其特征在于引发剂组合物包括形成基体的成分。

17.如权利要求1或2中的方法，其特征在于所述电磁辐射是用于激发所述引发剂的波长辐射。

18.如权利要求1至9中任一项的方法，其特征在于在步骤(b)将前体组合物施加于结构模板上，在步骤(c)使前体组合物与结构模板一起施加于引发剂层上。

19.如权利要求1或2的方法，其特征在于所述结构模板为图章，在步骤(c)将压花图章在完全区域负重，以如此的方式使得后续曝光引发剂层的电子束路径保持未受阻止。