[发明专利]空气耦合式的电容式微加工超声换能器、制备方法及用途有效
申请号: | 201810340100.7 | 申请日: | 2018-04-16 |
公开(公告)号: | CN108704827B | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 张慧;李志;郑冠儒;刘玉振;于露 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | B06B1/06 | 分类号: | B06B1/06;C30B33/00;C30B33/02;C30B33/08;C23C14/16 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 李林娟 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 空气 耦合 电容 式微 加工 超声 换能器 制备 方法 用途 | ||
1.一种空气耦合式的电容式微加工超声换能器,其特征在于,所述超声换能器包括:
换能器由16个阵元构成线性阵列,每个阵元包含多个串联在一起的敏感单元,各个阵元间距小于一个声波波长;
其中,换能器中每个敏感元件的结构由上到下依次由:上电极、振膜、空腔、以及基底组成,所述基底作为下电极使用;
其中,换能器在空气介质中发射和接收超声波信号,工作频率为100kHz-2MHz;
所述超声换能器还包括:薄膜,所述薄膜为单晶硅薄膜,所述单晶硅薄膜用作超声波发射与接收时的振动薄膜;所述上电极的材料选用金、铝;
所述基底为掺杂的低阻硅材料,空腔为真空或少量气体,所述超声换能器还包括:绝缘层,所述绝缘层为二氧化硅或氮化硅,通过刻蚀低阻硅基底形成沟槽来分隔换能器的阵元,从而构成多阵元的阵列。
2.一种空耦式超声换能器的制备方法,其特征在于,所述制备方法用于制备权利要求1中所述的空耦式超声换能器,所述制备方法采用SOI晶圆键合工艺,包括以下步骤:
(A)准备硅基底,硅基底采用的是掺杂的低阻硅,从而与顶电极组成平行极板电容;
(B)采用反应离子刻蚀或湿法刻蚀,在需要的位置处刻蚀出目标深度的空腔;
(C)在刻蚀完毕的硅基底上通过热氧化镀上一层绝缘层,避免上下电极之间的接触,绝缘层的材料采用二氧化硅;
(D)将硅基底与SOI硅片直接键合;
(E)去除SOI硅片的衬底和BOX层,留下一层单晶硅薄膜,以此作为CMUT敏感单元的振膜;
(F)在顶层蚀刻出沟槽,分离顶层的阵元;
(G)在顶层沉积金电极。
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